[发明专利]一种液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜及制备方法

权利要求书

1.一种液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜，其特征是：所述液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜由如下重量份配比的原料制备而成：

双酚A型聚碳酸酯100份；

纳米二氧化硅 15-30份；

超细活性硅微粉 10-20份；

超细改性氧化铝 10-20份；

硅烷偶联剂 1-3份；

润滑剂 0.5-1份；

所述超细活性硅微粉的制备方法的步骤如下：

将硅微粉烘干备用；

将环氧基硅烷偶联剂Z-6040加入到其体积3-5倍的50-75v/v%乙醇溶液中，得混合液；

在60℃条件下，往混合液中加入烘干后的硅微粉，持续搅拌15min后静置冷却至25℃，然后置于95℃的真空烘箱中干燥、碾筛得超细活性硅微粉；

所述50-75v/v%乙醇溶液的pH=4-6；

所述混合液和烘干后的硅微粉质量比为1：3；

所述超细改性氧化铝的粒径为200nm-2μm，所述超细改性氧化铝由氧化铝与丙烯酰氯以质量比4:1的比例在25℃的条件下共混搅拌反应3小时而制得。

2.根据权利要求1所述的液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜，其特征是：

所述双酚A型聚碳酸酯的分子量为5万-10万。

3.根据权利要求1所述的液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜，其特征是：

所述纳米二氧化硅是白色无定型粉末，所述纳米二氧化硅中的SiO₂含量在99.8%以上，所述纳米二氧化硅的粒径是200-400nm，所述纳米二氧化硅的比表面积为200±50m²/g。

4.根据权利要求1所述的液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜，其特征是：

所述超细活性硅微粉规格是400-2000目，其松散堆积密度为1330kg/m³。

5.根据权利要求1-4中任一所述的液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜，其特征是：

所述原料硅烷偶联剂是环氧基硅烷偶联剂Z-6040。

6.根据权利要求1-4中任一所述的液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜，其特征是：

所述润滑剂是液体石蜡。

7.根据权利要求6所述的液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜，其特征是：

所述液体石蜡在25℃下运动粘度为1000-2000m²/s。

8.一种权利要求1-7中任一所述的液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜的制备方法，其步骤如下：

将权利要求1所述重量份配比的原料双酚A型聚碳酸酯、纳米二氧化硅、超细活性硅微粉、超细改性氧化铝、硅烷偶联剂以及润滑剂在室温下在高速搅拌机中搅拌4-8分钟，然后将搅拌均匀的混合物加入到双螺杆挤出机中挤出造粒，粒子经成型机将产品吹塑成型。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于：所述双螺杆挤出机的螺杆长径比为45，双螺杆挤出机螺杆的6段温度从加料口到机头分别为235℃、233℃、225℃、240℃、238℃以及241℃，所述双螺杆挤出机的螺杆转速为350-400转/分钟。