[发明专利]抛光盘、抛光装置及高亮度耐磨金属镜面粗抛工艺在审
申请号: | 201610053517.6 | 申请日: | 2016-01-26 |
公开(公告)号: | CN105666315A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 徐金根;王海明 | 申请(专利权)人: | 科森科技东台有限公司 |
主分类号: | B24B37/16 | 分类号: | B24B37/16;B24B37/30;B24B37/32;B24B37/10 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 张海英;林波 |
地址: | 224200 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抛光 装置 亮度 耐磨 金属 镜面粗抛 工艺 | ||
1.一种抛光盘,其特征在于,所述抛光盘(2)为铜质的圆形盘,所述 抛光盘(2)的抛光面开设有排屑槽。
2.根据权利要求1所述的抛光盘,其特征在于,所述排屑槽包括沿着 径向开设的径向排屑槽(21)、及以所述抛光盘(2)的中心为圆心的多个环 向排屑槽(22),所述径向排屑槽(21)与所述环向排屑槽(22)连通。
3.根据权利要求2所述的抛光盘,其特征在于,所述径向排屑槽(21) 的数量为8个,相邻两个所述径向排屑槽(21)之间的夹角为45°。
4.根据权利要求2所述的抛光盘,其特征在于,所述环向排屑槽(22) 的数量为3个,相邻两个所述环向排屑槽(22)之间的距离相等。
5.根据权利要求2所述的抛光盘,其特征在于,所述横向排屑槽(21) 与所述环向排屑槽(22)的开槽深度为0.15mm。
6.根据权利要求1所述的抛光盘,其特征在于,所述抛光盘(2)的直 径为640mm。
7.一种抛光装置,其特征在于,包括权利要求1至6任一项所述抛光 盘(2),所述抛光盘(2)的顶面设置有载治具(3),所述载治具(3)的顶 部设置有配重块(4),所述载治具(3)、所述配重块(4)的外侧套设有陶 瓷挡圈(5),研磨产品(6)设置于所述载治具(3)与所述抛光盘(2)之 间,且所述陶瓷挡圈(5)将所述研磨产品(6)固定在其内侧。
8.一种采用权利要求7所述的抛光装置的高亮度耐磨金属镜面粗抛工 艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、清洗抛光盘(2):用水枪冲洗所述抛光盘(2)的表面的脏污, 检查所述抛光盘(2)的表面是否处理干净;
步骤二、安装研磨产品(6):将所述研磨产品(6)置于步骤一清洗后 的所述抛光盘(2)的表面;
步骤三、安装载治具(3):将所述载治具(3)置于步骤二安装的研磨 产品(6)的顶面;
步骤四、安装配重块(4):将所述配重块(4)置于步骤三安装的所述 载治具(3)的顶面;
步骤五、安装陶瓷挡圈(5):将所述陶瓷挡圈(5)套设于所述研磨产 品(6)、载治具(3)、配重块(4)的外侧,以将所述研磨产品(6)固定在 所述研磨产品(6)内侧。
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