[发明专利]一种在介质环境中直接测量试样应变的方法

权利要求书

1.一种在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，包括：

步骤a，对样品进行重新设计，在原样品的基础上，在需要测量部位两端增加两个凸台；

步骤b，测量两个所述凸台之间的间距，并将所述样品固定在牵引装置上；

步骤c，将引导卡具的一端卡接固定在所述凸台上，另一端固定刚性的引导杆，并使所述引导杆与所述样品平行，将所述引导杆插入位移传感器中，且插入部分在所述位移传感器的测量范围内；

步骤d，将所述样品置于介质环境中，启动所述牵引装置对所述样品进行牵引，记录所述位移传感器的测量值；

步骤e，计算所述样品的应变绝对值，并根据所述样品被拉伸或被压缩，确定应变值为正值或负值。

2.根据权利要求1所述的在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，所述步骤a中，所述在需要测量部位的两端增加凸台，为对所述样品进行加工时，直接在所述样品需要测量部位的两端加工出两个所述凸台。

3.根据权利要求1所述的在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，两个所述凸台与所述样品是分体的。

4.根据权利要求1-3中任一所述的在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，所述步骤b中，两个所述凸台之间的间距，为一个所述凸台的内侧端面与另一个所述凸台的外侧端面之间的距离。

5.根据权利要求1-3中任一所述的在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，所述步骤c中，所述位移传感器为LVDT位移传感器。

6.根据权利要求1-3中任一所述的在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，所述引导卡具、所述引导杆和所述位移传感器均有两个，分别对应两个所述凸台。

7.根据权利要求6所述的在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，所述步骤d中，所述位移传感器的测量值，为一个所述位移传感器在所述样品被牵引前的读数do₁、在所述样品被牵引后的读数do₂，以及另一个所述位移传感器在所述样品被牵引前的读数dt₁、在所述样品被牵引后的读数dt₂。

8.根据权利要求7所述的在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，所述步骤e中，所述应变绝对值的计算公式为：

s=|(do2-do1)-(dt2-dt1)|l×100%]]>

式中，s为所述样品的应变绝对值，do₁、do₂分别为一个位移传感器在样品被牵引前、被牵引后的读数；dt₁、dt₂分别为另一个位移传感器在样品被牵引前、被牵引后的读数；l为两所述凸台之间的间距。

9.根据权利要求6所述的在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，所述步骤d中，在所述牵引装置对所述样品进行牵引前，将两个所述位移传感器的读数校准为相同值，并分别记录两个所述位移传感器在所述样品被牵引后的读数do、dt。

10.根据权利要求9所述的在介质环境中直接测量试样应变的方法，其特征在于，所述步骤e中，所述应变绝对值的计算公式为：

s=|do-dt|l×100%]]>

式中，s为所述样品的应变绝对值，do、dt分别为两个位移传感器在样品被牵引后的读数；l为两所述凸台之间的间距。