[发明专利]一种显影液的温度控制装置

说明书

本发明公开了一种显影液的温度控制装置，包括：显影槽，循环泵，以及，温度调节管；温度调节管为集成有电热棒和通水管的双层设计的螺旋管；所述温度调节管横穿所述显影槽，并在所述显影槽的连接处对电热棒和通水管进行管路分离；所述显影槽边沿设置有两个分别用于连接至所述循环泵的接液端口，以在所述循环泵的驱动下，循环运输显影槽中的显影液。实施本发明实施例提供的显影液的温度控制装置，简化了装置的结构，同时因较强的温控能力能够适用于不同体积的显影槽，可以有效消除显影液局部浓度差和温度差，降低生产成本。

技术领域

本发明涉及显影液恒温控制技术领域，尤其涉及一种显影液的温度控制装置。

背景技术

Photolithography(中文译为光刻微影，简称“光刻”或“Photo”)是FPD(FlatPanel Display，平板显示)制造业的核心制程之一，其工序是将膜层电路结构复制到后续需要蚀刻的玻璃基板或者金属基板上，实现图形信息转移目的。

Photo制程常用到显影液是TMAH(四甲基氢氧化铵)和KOH(氢氧化钾)，前者常用浓度通常为2.38％。因显影液与显影光刻胶(Photo Resist，简称PR)的混合属于酸碱中和的化学反应，反应溶液的温度不同，会引起的溶液活性离子浓度不同，以致反应速率发生变化，最终引起显影后的PR膜层线宽不同，严重的会导致曝光区PR残留、非曝光区PR过刻等不良。故显影液温度属于Photo制程管控的因素之一。实际上，不管采用哪种显影液，显影机中存储显影液的显影槽(Developer Tank，简称Dev.Tank)均会安装一个显影液温度控制装置，以保证显影液的温度维持在规定的标准(Temperature Specification，一般为23±1℃)内。管控显影液的浓度和温度，一定程度上可提升高精细LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅技术)光刻制程的良品率。

目前常见的显影液温度控制装置主要有两种设计：

参见图1，是现有技术中的加热棒和PCW冷凝管结合方案的结构示意图。在该设计中，其主要将加热棒11和PCW(Process Cooling Water，制程冷却水)冷凝管12组建成冷却系统：在显影槽13底部安装加一个电热棒11，中下部安装PCW冷凝管12。该设计适用于容量较小的显影槽中，因显影槽内部显影液流动偏少，可能引起显影液局部浓度差和温差。

参看图2，是现有技术提供的循环通水管技术方案的结构示意图。在第二种设计中，通过在循环通水管21中通入冷水或温水，外加循环泵(Recycle Pump)22循环显影液与

Chiller(制冷/制热装置)23热交换控制。具体地，在显影槽24的中下部安装通水管21，通过显影槽24的显影液液位下的两个连接端口25连接管路至Chiller 23。Chiller23内部可针对不同情况直接对显影液加热或者冷却(主要用于辅助加热)。但是，由于该设计通过温水加热，加热功能偏弱，所以需要在显影槽外部追加一个Chiller辅助加热，适用于容量较大的显影槽中。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是，提供一种显影液的温度控制装置，简化了装置的结构，通过较强的温控能力以适用于不同体积的显影槽，有效消除显影液局部浓度差和温度差，降低生产成本。

为解决以上技术问题，本发明实施例提供一种显影液的温度控制装置，包括：显影槽，循环泵，以及，温度调节管；

所述温度调节管为集成有电热棒和通水管的双层设计的螺旋管；所述温度调节管横穿所述显影槽，并在所述显影槽的连接处对电热棒和通水管进行管路分离；

所述显影槽边沿设置有两个分别用于连接至所述循环泵的接液端口，以在所述循环泵的驱动下，循环运输显影槽中的显影液；所述电热棒内含电热丝；所述通水管为环绕设置在所述电热丝外部的空心通水管，所述螺旋管通过三通分叉管在与所述显影槽的连接处，对所述电热丝和所述通水管进行管路分离。