[发明专利]蒸镀用遮挡装置以及蒸镀设备有效
申请号: | 201610059917.8 | 申请日: | 2016-01-28 |
公开(公告)号: | CN105568224B | 公开(公告)日: | 2018-09-21 |
发明(设计)人: | 赵德江 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸镀用 遮挡 装置 以及 设备 | ||
本发明涉及一种蒸镀用遮挡装置,用于防止蒸镀时材料对蒸镀设备的污染,包括:一遮挡基板;用于增加所述遮挡基板的表面的不平整度的遮挡结构,所述遮挡结构设置于所述遮挡基板上。本发明的有益效果是:增加遮挡装置的使用寿命,防止真空腔体的污染。
技术领域
本发明涉及液晶产品制作技术领域,尤其涉及一种蒸镀用遮挡装置以及蒸镀设备。
背景技术
使用蒸镀方法制作OLED产品是目前比较主流的制作方法。蒸镀一般采用的是真空腔室加蒸发源,通过材料在真空腔室内弥散,实现成膜。采用这种制作方法,在成膜的过程中材料也会沉积在真空腔室的腔壁上,造成对腔壁的污染,造成产品良率下降。目前主流的解决办法是在真空腔体内增加材料遮挡装置。现在主流的遮挡装置就是用具有涂层的板子进行遮挡,由于板子面是平的,能锁住的材料有限,所以要经常的进行更换。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供一种蒸镀用遮挡装置以及蒸镀设备,增加了遮挡装置的使用时间,减少了蒸发物质对腔体的污染。
为了达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种蒸镀用遮挡装置,用于防止蒸镀时材料对蒸镀设备的污染,包括:
一遮挡基板;
用于增加所述遮挡基板的表面的不平整度的遮挡结构,所述遮挡结构设置于所述遮挡基板上。
进一步的,所述遮挡基板的表面设置凹凸结构以形成所述遮挡结构。
进一步的,所述遮挡结构为多个中空柱体结构连接形成的网格状结构。
进一步的,所述中空柱体结构的截面形状为圆形、四边形或六边形。
进一步的,所述网格状结构可拆卸的连接于所述遮挡基板上。
进一步的,所述网格状结构磁性吸附于所述遮挡基板上。
进一步的,所述遮挡基板采用铁制作,所述网格状结构采用磁性材料或可磁化材料制作。
进一步的,所述网格状结构包括多个子网格状结构。
进一步的,所述遮挡基板用于连接所述遮挡结构的一面设置有用于吸附蒸镀出的材料的吸附涂层。
本发明实施例还提供一种蒸镀设备,包括蒸镀源、真空腔体以及设置于所述真空腔体内的上述的蒸镀用遮挡装置。
本发明的有益效果是:增加遮挡装置的使用寿命,防止真空腔体的污染。
附图说明
图1表示本发明遮挡装置结构示意图;
图2表示本发明遮挡装置局部结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的特征和原理进行详细说明,所举实施例仅用于解释本发明,并非以此限定本发明的保护范围。
如图1所示,本实施例提供一种蒸镀用遮挡装置,用于防止蒸镀时材料对蒸镀设备的污染,包括:
一遮挡基板1;
用于增加所述遮挡基板1的表面的不平整度的遮挡结构2,所述遮挡结构2设置于所述遮挡基板1上。
所述遮挡结构2的设置增加了所述遮挡基板1的表面的平整度,所述遮挡结构2与所述遮挡基板1相配合使用,增加了蒸镀源挥发的材料的附着力,增加了遮挡装置的使用寿命,相对于现有技术中仅设置板子的遮挡装置,本实施例中的遮挡装置不必频繁的更换,节省人力物力,且遮挡装置更加有效的承载蒸镀源挥发的材料,防止了真空腔体的污染。
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