[发明专利]一种对HMX晶体形貌进行修复/修饰的方法在审
| 申请号： | 201610070704.5 | 申请日： | 2016-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN105732531A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 郭学永;张静元;焦清介;张朴;崔超;卢佳骥;张洪垒;李航 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | C07D257/02 | 分类号： | C07D257/02 |
| 代理公司： | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人： | 韦庆文 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 hmx 晶体 形貌 进行 修复 修饰 方法 | ||
1.一种对HMX晶体形貌进行修复/修饰的方法，其特征在于，该方法包括：在搅拌条件下，使HMX晶体与溶剂-反溶剂重结晶法制得的HMX重结晶母液或其稀释液进行混合。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述HMX重结晶母液中的溶剂选自丙酮、二甲基亚砜和二甲基甲酰胺中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述HMX重结晶母液中的反溶剂选自二氯甲烷、三氯甲烷、四氯化碳、乙醇和蒸馏水中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，HMX重结晶母液稀释液由向饱和的HMX重结晶母液中加入溶剂制得。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述HMX重结晶母液中，HMX的浓度为HMX在溶剂中溶解度的1-10％，优选为2-7％。
6.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述混合的条件包括：温度为20-80℃。
7.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述搅拌的速度为200-1000转/分钟。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述搅拌的速度为500-1000转/分钟。
9.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述搅拌的时间为2-4h。
10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述修复/修饰使得HMX晶体中HMX含量≥99.9％，晶体密度≥1.90g/cm3，HMX晶体的外观观测无尖锐棱角，晶体表面光滑，晶面无裂纹，晶体短长轴比≥0.8。
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