[发明专利]一种显示装置及其制作方法

权利要求书

1.一种显示装置，其特征在于，包括：

形成在第一衬底上的背光模组、阵列基板、液晶和彩膜基板，其 中所述背光模组、阵列基板、液晶和彩膜基板为通过溅射工艺形成。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述背光模 组包括形成在所述第一衬底上的反射板、导光板、LED、遮光层、胆 甾相液晶和四分之一波片；

其中，所述LED位于所述导光板的侧边，所述遮光层在所述第 一衬底上的投影覆盖所述LED在所述第一衬底上的投影，且部分覆 盖所述导光板在所述第一衬底上的投影；

所述胆甾相液晶的螺距旋转方向为左旋，允许右旋圆偏振光透 射，且将左旋圆偏振光反射向所述反射板；或者，所述胆甾相液晶的 螺距旋转方向为右旋，允许左旋圆偏振光透射，且将右旋圆偏振光反 射向所述反射板。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述遮光层 包括吸光层和/或反光层。

4.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述遮光层 包括吸光层和反光层，所述吸光层与所述反光层叠加，且所述反光层 靠近所述LED。

5.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述LED包 括形成在第二衬底上的栅极、栅绝缘层、有源层源极和漏极，以及形 成在所述源极或漏极上的平坦层、预倾向层、阳极、P型掺杂层、量 子阱、N型掺杂层和阴极；

其中，所述阳极通过平坦层上的过孔与所述平坦层覆盖的源极或 漏极相连。

6.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述LED包括： 形成在第二衬底上的栅极、栅绝缘层、有源层源极和漏极，以及形成 在所述源极或漏极上的平坦层、预倾向层、阳极、P型掺杂层、量子 阱、N型掺杂层和阴极；

其中，所述阳极通过平坦层上的过孔与所述平坦层覆盖的源极或 漏极相连，所述预倾向层、阳极、P型掺杂层、量子阱、N型掺杂层 和阴极的边缘在所述LED的边缘区域与所述栅绝缘层连接。

7.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述导光板包括： 形成在反射板上的第一基板、第一透明电极、聚合物分散液晶膜、第 二透明电极和第二基板。

8.一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括：

在第一衬底上通过溅射工艺形成背光模组；

在所述背光模组上通过溅射工艺形成阵列基板；

在所述阵列基板上通过溅射工艺形成液晶；

在所述液晶上通过溅射工艺形成彩膜基板。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在第一衬底 上通过溅射工艺形成背光模组，进一步包括：

在所述第一衬底上形成反射板；

在所述反射板上形成导光板，在所述导光板的侧边形成LED；

在所述LED上形成遮光层；

在所述遮光层上形成胆甾相液晶；

在所述胆甾相液晶上形成四分之一波片；

其中，所述LED位于所述导光板的侧边，所述遮光层在所述第 一衬底上的投影覆盖所述LED在所述第一衬底上的投影，且部分覆 盖所述导光板在所述第一衬底上的投影；

所述胆甾相液晶的螺距旋转方向为左旋，允许右旋圆偏振光透 射，且将左旋圆偏振光反射向所述反射板；或者，所述胆甾相液晶的 螺距旋转方向为右旋，允许左旋圆偏振光透射，且将右旋圆偏振光反 射向所述反射板。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述LED上 形成遮光层，进一步包括：

在所述LED上形成吸光层和/或反光层。

11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述LED上 形成遮光层，进一步包括：

在所述LED上形成反光层，在所述反光层上形成吸光层。