[发明专利]支撑杆与应用此支撑杆的蚀刻设备在审
| 申请号： | 201610077664.7 | 申请日： | 2016-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN107037615A | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | 郑宏祥;许文宏 | 申请（专利权）人： | 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司11279 | 代理人： | 王正茂,丛芳 |
| 地址： | 210038 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 撑杆 应用 蚀刻 设备 | ||
1.一种蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述蚀刻设备的支撑杆包含：
第一部分，其连接至控制装置，以使所述控制装置控制所述支撑杆的移动；
第二部分，其用以支撑玻璃基板，其中所述第二部分的材质为工程塑胶；以及
第三部分，其位于所述第一部分与所述第二部分之间，其中所述第三部分的材质为陶瓷材料。
2.如权利要求1所述的蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述工程塑胶为聚酰亚胺。
3.如权利要求1所述的蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述第一部分的材质为金属。
4.如权利要求1所述的蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述第三部分用以在所述支撑杆受到撞击时提供溃缩机制。
5.如权利要求4所述的蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述第三部分的材质为氧化锆。
6.一种蚀刻设备，用以蚀刻玻璃基板，其特征在于，所述蚀刻设备包含：
蚀刻气体供应装置，其用以提供蚀刻气体；
电极装置，其用以离子化所述蚀刻气体，所述电极装置包含:
下电极部，其具有多个贯穿孔；以及
上电极部，其对应设置于所述下电极部上方；以及
多个支撑杆，其穿设于所述多个贯穿孔中，以支撑所述玻璃基板，使所述玻璃基板位于所述上电极部与所述下电极部之间，其中每个所述支撑杆包 含：
第一部分，其连接至控制装置，以使所述控制装置控制所述支撑杆的移动；
第二部分，其用以支撑玻璃基板，其中所述第二部分的材质为工程塑胶；以及
第三部分，其位于所述第一部分与所述第二部分之间，其中所述第三部分的材质为陶瓷材料。
7.如权利要求6所述的蚀刻设备，其特征在于，所述第一部分的材质为金属。
8.如权利要求6所述的蚀刻设备，其特征在于，所述第三部分用以在所述支撑杆受到撞击时提供溃缩机制。
9.如权利要求8所述的蚀刻设备，其特征在于，所述第三部分的材质为氧化锆。
10.如权利要求6所述的蚀刻设备，其特征在于，所述玻璃基板具有可视区域，所述可视区域对应至所述下电极部的辅助支撑区域，所述多个贯穿孔的至少一个位于所述辅助支撑区域中。
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