[发明专利]一种调控红色PS胶体晶体膜饱和度的方法在审

专利信息
申请号: 201610078045.X 申请日: 2016-02-03
公开(公告)号: CN105694086A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 王莉丽;王秀锋;宫在磊;于成龙;江红涛 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C08J7/06 分类号: C08J7/06;C08J7/04;C08J5/18;C08L25/06
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 段俊涛
地址: 710021 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 调控 红色 ps 胶体 晶体 饱和度 方法
【权利要求书】:

1.一种调控红色PS胶体晶体膜饱和度的方法,其特征在于,包括如下 步骤:

(1)采用乳液聚合法制备平均粒径为440±10nm的PS微球母液,以去 离子水为溶剂,将其稀释为PS微球浓度为0.1-0.5wt%的乳液,置于玻璃器 皿中超声分散30-60min;

(2)用去离子水清洗基片,然后分别在乙醇和去离子水中超声清洗 30-90min后烘干备用,将清洗过的基片垂直固定在已超声分散的PS乳液中, 放入烘箱中9-12h,烘干温度为40℃-65℃,缓慢烘干得到组装好的PS胶体 晶体膜;

(3)将从烘箱中取出的PS胶体晶体膜放入蒸镀仪中镀碳膜,设置镀膜 电流为60mA,通过碳丝的粗细来调整碳膜的厚度,使PS胶体晶体膜表面的 碳膜厚度在5-25nm之间。

2.根据权利要求1所述调控红色PS胶体晶体膜饱和度的方法,其特征 在于,所述基片为玻璃基片、金属基片或有机基片。

3.根据权利要求1所述调控红色PS胶体晶体膜饱和度的方法,其特征 在于,通过定量改变碳膜的厚度来实现对红色PS胶体晶体膜色饱和度的调 控。

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