[发明专利]一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法

说明书

本发明属于玻璃技术领域，具体涉及一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法，其结构为：玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化锆膜；本发明的膜层能够经受700℃的高温钢化，钢化后颜色稳定，膜层钢化后无外观缺陷。

技术领域

本发明属于玻璃技术领域，具体涉及一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

低辐射镀膜玻璃被证明是当今最好的建筑节能玻璃。通过在普通玻璃表面镀低辐射膜而改善其性能，有效限制红外光透过，充分降低玻璃两侧的热交换，使其与普通玻璃和传统镀膜玻璃相比，具有优良的节能性能、光学性能和环保性能。低辐射镀膜玻璃己被广泛应用于世界各地的建筑中，特别是经济和科学技术比较发达的国家和地区。低辐射镀膜本身随着研发的深入也在进行着更新换代，不仅满足建筑设计潮流审美的需要，而且节能性也得到进一步提高。其中，三银低辐射镀膜玻璃因为其具有更低的红外线透过率、辐射率和传热系数，使其更节能，从而被广泛应用。

但是，三银低辐射镀膜玻璃因膜层结构复杂，在钢化过程中容易产生钢化后颜色不稳定、有色道、膜层擦拭实验不合格等问题。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的在于提供一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，该玻璃膜层能够经受700℃的高温钢化，钢化后颜色稳定，膜层钢化后无外观缺陷。

本发明的目的之二在于提供所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃的制备方法。

一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃的结构为：玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化锆膜。

较佳地，所述第一复合介质层的厚度为20～50nm、第一银层的厚度为5～15nm、第一保护层的厚度为1～1-10nm、第二复合介质层的厚度为55～110nm、第二银层的厚度为5～15nm、第二保护层的厚度为1～10nm、第三复合介质层的厚度为55～110nm、第三银层的厚度为5～15nm、第三保护层的厚度为1～10nm、第四复合介质层的厚度为35～70nm、氧化锆膜的厚度为3～10nm。厚度在一定的范围内，可起到减少摩擦，提升抗划伤性能。太厚的话，表面就过于粗糙，反而起到相反的效果。此膜层能够有效增加膜系的抗划伤性能，提高产品的可处理加工特性，减少膜面划伤等缺陷。

较佳地，所述第一复合介质层包括氮化硅、氧化锌和AZO；所述氮化硅的厚度为10～25nm、所述氧化锌的厚度为5～15nm、所述AZO的厚度为5～10nm。较佳地，所述第一保护层、第二保护层和第三保护层为镍铬层。

较佳地，所述第二复合介质层包括氮化硅、氧化锌锡、氧化锌和AZO，所述氮化硅的厚度为20～40nm、所述氧化锌锡的厚度为20～40nm、所述氧化锌的厚度为10～20nm、所述AZO的厚度为5～10nm。

较佳地，所述第三复合介质层包括氮化硅、氧化锌锡、氧化锌、AZO，所述氮化硅的厚度为20～40nm、所述氧化锌锡的厚度为20～40nm、所述氧化锌的厚度为10～20nm、所述AZO的厚度为5～10nm。

较佳地，第四复合介质层包括AZO、氧化锌和氮化硅，所述AZO的厚度为5～10nm、所述氧化锌的厚度为10～20nm、所述氮化硅的厚度为20～40nm。制备所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，具体为：玻璃基片清洗—磁控溅射镀膜—切割—磨边—钢化；

其中，

1)、底部SiN的N₂量要较少；例如，氮化硅的基础配比为，氩气:氮气＝1000:900(单位：SCCM)，底部氮化硅气氛配比则为，氩气:氮气＝1000:700，以形成致密的结构，能够增加跟玻璃基片的结合力。