[发明专利]用于在EUV光刻中监测焦点的方法有效
| 申请号： | 201610081242.7 | 申请日： | 2016-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN105892229B | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | T·A·布鲁纳;M·伯克哈特 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/44 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 于静;张亚非 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 euv 光刻 监测 焦点 方法 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司，未经国际商业机器公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610081242.7/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光刻胶增粘剂涂覆装置及方法
- 下一篇：一种用于排气辅助制动器的一体式气缸
