[发明专利]触控面板及其制作方法

权利要求书

1.一种触控面板，其特征在于，包括：

一基板，

一感应层，设置于所述基板上，所述感应层由复数条复合金属细线所构成，所述复合金属细线彼此交错形成网格状，且每一所述复合金属细线包括一金属层与一第一镍铜钛层，所述金属层设置于所述基板与所述第一镍铜钛层之间；

所述第一镍铜钛层中含有35％～50％的镍、4％～10％的铜、44％～55％的钛；

所述第一镍铜钛层的反射率小于等于65％。

2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述第一镍铜钛层的厚度介于10～30nm。

3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述金属层为铜、铝、金或银。

4.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述金属层的厚度介于100～400nm。

5.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述金属细线的宽度小于5微米。

6.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述该金属细线的宽度介于1～3微米。

7.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述触控面板还包括一保护盖板，设置于所述第一镍铜钛层远离所述金属层之一侧。

8.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述复合金属细线还包括一第二镍铜钛层，设置于所述金属层与所述基板之间。

9.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于：所述第二镍铜钛层中含有35％～50％的镍、4％～10％的铜、44％～55％的钛。

10.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于：所述第二镍铜钛层的厚度介于10～30nm。

11.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于：所述第二镍铜钛层的反射率小于等于60％。

12.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于：所述触控面板还包括一保护盖板，设置于所述基板远离所述第二镍铜钛层之一侧。

13.如权利要求8所述的触控面板，其特征在于：所述基板为所述触控面板的保护盖板。

14.一触控面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1，提供一承载板及一真空装置；

S2，提供一金属靶材，于所述真空装置中，溅镀一金属层于所述承载板的一侧；

S3，提供第一镍铜钛合金靶材，于所述真空装置中，溅镀一第一镍铜钛层于所述金属层远离所述承载板的一侧；

S4，图案化所述金属层与所述第一镍铜钛层，以形成网格状且具有感应电极的感应层；

所述镍铜钛合金靶材中含有35％～50％的镍、4％～10％的铜、44％～55％的钛；

所述第一镍铜钛层的反射率小于等于65％。

15.如权利要求14所述的触控面板的制作方法，其特征在于：所述金属靶材为铜、铝、金或银。

16.如权利要求14所述的触控面板的制作方法，其特征在于，在步骤S2之前，还包括一步骤S10：提供第二镍铜钛合金靶材，于所述真空装置中，溅镀一第二镍铜钛层于所述承载板的一侧。

17.如权利要求16所述的触控面板的制作方法，其特征在于：于步骤S2中，所述金属层是溅镀于所述第二镍铜钛层远离所述承载板的一侧。