[发明专利]照明光学系统、照明方法、曝光装置以及曝光方法

说明书

本发明提供一种检查装置，其能够随时检查例如配置于照明光学系统的光路中的空间光调制器的反射镜部件的反射率。本发明是对具有被二维排列且被独立控制的多个光学部件的空间光调制器进行检查的检查装置(10)，其具备：共轭光学系统(11、12)，其配置于空间光调制器的光学上的下游侧，形成与多个光学部件所被排列的排列面在光学上共轭的共轭面；光检测器(13)，其具有配置于上述共轭面或其附近的检测面；检查部(14)，其基于光检测器的检测结果检查多个光学部件的光学特性。

本申请是申请日为2009年5月12日、申请号为200980101546.3、发明名称为“空间光变频器的检查装置及检查方法、照明光学系统、照明光学系统的调整方法、曝光装置、以及器件制造方法”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种空间光调制器的检查装置及检查方法、照明光学系统、照明光学系统的调整方法、曝光装置、以及器件制造方法。更具体来说，本发明涉及一种对适用于曝光装置的照明光学系统中的空间光调制器的检查，上述曝光装置用于利用光刻工序来制造半导体元件、摄像元件、液晶显示元件、薄膜磁头等器件。

背景技术

在这种典型的曝光装置中，从光源射出的光束穿过作为光学积分器的蝇眼透镜，形成由多个光源构成的实质上作为面光源的二次光源(一般来说是照明光瞳的给定的光强度分布)。以下说明中，将照明光瞳中的光强度分布称作“光瞳强度分布”。另外，所谓照明光瞳，是被作为如下的位置定义的，即，利用照明光瞳与被照射面(在曝光装置的情况下是掩模或晶片)之间的光学系统的作用，被照射面成为照明光瞳的傅立叶变换面的位置。

来自二次光源的光束在被利用聚光透镜聚光后，对形成有给定的图案的掩模重叠地进行照明。透过掩模的光穿过投影光学系统在晶片上成像，向晶片上投影曝光(转印)掩模图案。形成于掩模上的图案被高集成化，为了将该微细图案向晶片上正确地转印，在晶片上获得均匀的照度分布是不可缺少的。

以往，人们提出过可以连续地变更光瞳强度分布(进而是照明条件)而不使用变焦光学系统的照明光学系统(参照专利文献1)。专利文献1中公开的照明光学系统中，通过使用由以阵列状排列且可以被独立驱动控制倾斜角及倾斜方向的多个微小反射镜部件构成的可动多反射镜，将入射光束分割为每个反射面的微小单位地偏转，而将光束的截面变换为所需的形状或所需的大小，进而实现所需的光瞳强度分布。

专利文献1：日本特开2002-353105号公报

在专利文献1中记载的照明光学系统中，由于使用具有被独立控制姿势的多个微小的反射镜部件的反射型的空间光调制器，因此就光瞳强度分布的形状及大小的变更相关的自由度高。但是，例如由铝制成的反射镜部件的反射面的反射率因光照射而随时间推移地降低，受该反射率降低的影响，有可能很难形成所需的光瞳强度分布。

发明内容

本发明是鉴于上述的问题而完成的，其目的在于，提供可以随时检查例如配置于照明光学系统的光路中的空间光调制器的反射镜部件的反射率的检查装置及检查方法。另外，本发明的目的在于，提供一种照明光学系统，其可以使用检查例如配置于光路中的空间光调制器的反射镜部件的反射率，来实现所需的光瞳强度分布。另外，目的还在于，提供一种曝光装置，其可以使用实现所需的光瞳强度分布的照明光学系统，基于恰当的照明条件来进行良好的曝光。

为了解决上述问题，本发明的第一方式中，提供一种检查装置，是对具有被二维地排列且独立地控制的多个光学部件的空间光调制器进行检查的检查装置，其特征在于，

具备：

共轭光学系统，其配置于上述空间光调制器的光学上的下游侧，形成与上述多个光学部件所被排列的排列面在光学上共轭的共轭面；

光检测器，其具有配置于上述共轭面或其附近的检测面；

检查部，其基于上述光检测器的检测结果，检查上述多个光学部件的光学特性。