[发明专利]一种显示器件及其制备方法

说明书

一种显示器件，包括盖板、以及盖板底面涂覆的光学调整层、及遮蔽层，光学调整层包括叠加组合在一起的氮化钼子层与氧化硅子层，其中氮化钼子层位于盖板一侧，氧化硅层位于显示屏一侧。本发明通过光学调整层中的氮化钼子层与氧化硅子层叠加组合，熄屏时正面光线反射率大于60％，点亮时背面光线透射率大于50％，完全满足显示屏点亮时作为正常显示器件使用，熄屏时作为镜子使用，将遮蔽层涂印在光学调整层的氧化硅子层上，遮蔽层与显示屏中心显示区域从视觉上看起来成为一体，使镜面更宽，使用更方便。本显示器件的制备方法工艺简单，可适用于大批量生产。

技术领域

本发明涉及显示器领域，特别的，涉及一种可作为镜子使用的显示器件及其制备方法。

背景技术

随着手机、平板等数码产品在人们日常生活中的普及，人们对数码产品显示器面板的要求也越来越高，在保证正常显示的前提下，还需要尽可能更多的功能，为人们的生活提供方便，现有市面上的数码产品熄屏时，显示器面板还能当镜子使用，现有的带镜子功能的显示器面板一般是在面板上镀金属膜层，但熄屏时其正面光线反射率不够，镜子使用效果差，也有正面光线反射率较高的，但屏幕点亮时其背面光线透射率不高而影响显示屏的正常使用，或者其加工工艺复杂，成本高。中国专利201520482448.1公开了一种半透半反智能化妆镜，其镜面上镀有半透半反膜层，其LCD模组未显示时，可作为普通镜子使用，其半透半反膜层采用NB₂O₅、SiO₂、Si₃N₄、TiO₂中的至少两种，该方案只阐述了其半透半反膜层对150nm～650nm可见光波段的透射率为35～50％，反射率为50～65％，并未详述屏幕点亮时其背面光线的透射率，且未公开其半透半反膜层的具体结构。

发明内容

本发明目的在于提供一种显示器件及其制备方法，使得该显示器件在熄屏时正面反射率尽可能地高以使得其作为镜子使用的效果更好，同时在该显示器件点亮时背面光线透射率较高以保持该显示器件的正常显示效果，从而解决背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示器件，在厚度方向依次包括盖板、盖板底面涂覆的光学调整层以及显示屏，所述光学调整层包括叠加组合在一起的氮化钼子层与氧化硅子层，其中氮化钼子层位于盖板一侧，氧化硅子层位于显示屏一侧。

进一步的，所述盖板底面涂覆的光学调整层为一层或重复叠加的多层。

进一步的，所述光学调整层中，氮化钼子层的厚度为2～15nm，氧化硅子层的厚度为60～100nm。

优选的，所述氮化钼子层为MoyNx，其中N原子数x与Mo原子数y的比值范围为：x：y＝(1.7～2)：3，所述氧化硅子层为SiwOz，其中O原子数z与Si原子数w的比值范围为：z：w＝(1.8～2)：1。

进一步的，所述显示器件还包括盖板与显示屏之间的遮住显示屏边框区域的遮蔽层，遮蔽层涂印于盖板底面，第一层光学调整层的氮化钼子层整面涂覆在印有遮蔽层的盖板底面上；或者遮蔽层涂印于最后一层光学调整层的氧化硅子层上，再在该涂印有遮蔽层的氧化硅子层上整面涂粘光学胶，或在显示屏上涂粘光学胶，通过光学胶将涂有光学调整层与遮蔽层的盖板与显示屏粘合在一起；当遮蔽层涂印于盖板底面时，所述氮化钼子层的涂覆厚度不包括遮蔽层的厚度，即不包括嵌入遮蔽层所围成的中心显示区域部分的厚度。

一种显示器件的制备方法，包括以下步骤：

1)在盖板底面涂覆光学调整层，或涂印遮蔽层；

2)在光学调整层上涂印遮蔽层，或在涂有遮蔽层的盖板底面上整面涂覆光学调整层；

3)通过水胶或OCA等光学胶将步骤2结束后的盖板涂有遮蔽层及光学调整层的一面与显示屏粘合在一起。

步骤1及步骤2中所涂覆的光学调整层为一层、或重复叠加的多层。