[发明专利]刻蚀图案套印高精度对位方法及装置

权利要求书

1.一种刻蚀图案套印高精度对位方法，包括下述步骤：

S1：提供硅片和浆料载体；

S2：视觉识别系统拍摄硅片的图片；

S3：在图片上选取固定位置的ROI（感兴趣区域）区域，通过垂直投影方法，获得一组ROI区域内的数据，通过离散数据曲线平滑算法对数据进行预处理，计算得出波峰的位置和线宽；

S4：比对ROI区域内掩膜线的线宽与波峰的宽度，计算得出掩膜线图案的角度；

S5：通过运动装置旋转硅片相应的角度和位置，使掩膜线的图案和浆料载体图案重合；

S6：激光作用到浆料载体上，浆料最终作用到掩膜线的图案位置。

2.一种刻蚀图案套印高精度对位装置，其特征在于：包括：

用于拍摄和记录硅片表面图片的视觉识别装置；用于旋转和移动硅片的运动装置；以及，用于接收和处理视觉识别系统输入的图像信息并输出控制指令给运动装置和激光扫描装置的控制系统。

3.根据权利要求2所述的刻蚀图案套印高精度对位装置，其特征在于：所述视觉识别装置包括镜头朝向硅片的工业相机、为相机提供光照的光源、对相机采集到的图像进行收集的图像采集部件，相机、图像采集部件、运动装置和激光扫描装置分别通过通讯传输电缆连接控制系统。