[发明专利]检查设备和方法在审
| 申请号： | 201610099812.5 | 申请日： | 2013-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN105549341A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | A·登博夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 检查 设备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学设备，包括用于将辐射束聚焦在目标结构上的光斑 处的照射光学器件，其中所述照射光学器件包括设置在光瞳面处或 附近的滤光片，所述滤光片使得所述束的传输损耗随着距所述束的 光轴的径向距离而增大。
2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述滤光片包括具有其 厚度随着径向远离中心点而增大的金属涂层的透明衬底。
3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述厚度首先缓慢增大 并且随后随着距所述中心点的距离增大而以增大的速率增大，以使 得所述滤光片的径向透射函数近似汉宁函数。
4.一种测量衬底上的目标结构的特性的方法，所述方法包括： 使用根据权利要求1至3任一项所述的光学设备采用辐射光斑照射 所述目标结构，检测由所述目标结构衍射的辐射，以及处理检测到 的辐射以获得对所述目标结构的一个或多个参数的测量。
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