[发明专利]一种提高类金刚石薄膜抗激光损伤能力的方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201610100864.X 申请日: 2016-02-24
公开(公告)号: CN105734523B 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 吴慎将;苏俊宏;李党娟;徐均琪;葛锦蔓;汪桂霞;时凯 申请(专利权)人: 西安工业大学
主分类号: C23C14/58 分类号: C23C14/58;C23C16/56
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 黄秦芳
地址: 710032 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 金刚石 薄膜 激光 损伤 能力 方法 及其 装置
【权利要求书】:

1.一种提高类金刚石薄膜抗激光损伤能力的方法,是在DLC及介质薄膜的表面形成具有闭环的磁通路,使得薄膜表面的磁场的梯度最大;所述薄膜是DLC薄膜时,其磁场强度为0.8-1T;所述薄膜是介质薄膜时,其磁场强度为1.1-1.2T。

2.如权利要求1所述的一种提高类金刚石薄膜抗激光损伤能力的方法,其特征在于:所述磁场为反斥磁场,磁场力向外。

3.如权利要求1所述一种提高类金刚石薄膜抗激光损伤能力的方法所使用的装置,其特征在于:包括导磁外框(2),在外框内设置有一对永磁铁,第一永磁铁(3)和第二永磁铁(4),第一永磁铁(3)和第二永磁铁(4)的距离可调。

4.如权利要求3所述一种提高类金刚石薄膜抗激光损伤能力的方法所使用的装置,其特征在于:所述第一永磁铁(3)与螺杆(5)连接,该螺杆(5)设置于导磁外框(2)上,且其轴线与第一永磁铁(3)和第二永磁铁(4)的中心连线重合。

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