[发明专利]一种微纳PSS制备用软膜及其制造方法在审
| 申请号： | 201610103730.3 | 申请日： | 2016-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN105742414A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 张伟;孙智江 | 申请（专利权）人： | 海迪科(南通)光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/12 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人： | 滑春生 |
| 地址： | 226500 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 pss 制备 用软膜 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种微纳PSS制备用软膜制造方法，其特征在于：包括下述步骤：
a）硬膜制备：首先，根据所需图形采用Si或SiC基板制备出硬膜；
b）软膜制备：根据制备的硬膜利用树脂注塑成型制备出软膜半成品；
c）镀金属膜：在软膜半成品上镀一层厚度在150nm以上的高反射率金属膜；
d)去金属膜：采用干法ICP刻蚀去除需曝光处的金属膜，从而形成所需的软膜。
2.根据权利要求1所述的微纳PSS制备用软膜制造方法，其特征在于：所述步骤c中，采用电子束蒸镀或磁控溅射法镀金属膜，镀膜速率为5A/S。
3.根据权利要求1所述的微纳PSS制备用软膜制造方法，其特征在于：所述步骤d中，干法ICP刻蚀的刻蚀速率10A/S。
4.一种利用权利要求1所述的微纳PSS制备用软膜制造方法制得的软膜，其特征在于：包括一软膜主体，该软膜主体呈长方体状，在软膜主体的长轴方向的一侧设置有梳齿组；所述梳齿组由若干并列等距分布的梳齿共同构成，在相邻的两个梳齿所形成的凹槽的内壁上还设置有高反射金属层，且高反射金属层覆盖住相邻两个梳齿所形成的凹槽。
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