[发明专利]一种纳米压印设备

权利要求书

1.一种纳米压印设备，其特征在于，包括纳米压印头(1)，所述纳米压印头(1)上设置有纳米压印模板(2)，所述纳米压印模板(2)的下方设置有透明的压印衬底，所述压印衬底的下方设置有曝光光源(3)，所述曝光光源(3)为UV-LED光源；

所述曝光光源(3)为阵列设置的光源组；

所述曝光光源(3)为包括至少两个独立光源的光源组，每个所述独立光源分别与控制装置连接；

至少两个所述独立光源在所述压印衬底下方均匀排布；

所述压印衬底的侧面设置有用于将所述曝光光源(3)的发射光集中反射至所述压印衬底的底部的反光装置；

所述压印衬底为柔性衬底(4)，所述柔性衬底(4)撑在支承辊(6)上，所述支承辊(6)的滚动带动所述柔性衬底(4)的传动；

所述纳米压印头(1)的外壳上设置有用于控制承重支架纵向移动的电机，所述承重支架与所述外壳通过用于限制所述承重支架移动范围的限位件连接，所述承重支架下方固定有弹性件，所述弹性件的下方设置有用于吸附所述纳米压印模板(2)的模板吸盘。

2.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，所述纳米压印头(1)上设置有用于测量所述承重支架与所述外壳的相对位置的传感器，所述传感器与用于根据所述相对位置控制所述电机进行操作的控制器连接。