[发明专利]一种体绘制方法在审
申请号: | 201610108464.3 | 申请日: | 2016-02-29 |
公开(公告)号: | CN105701860A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 王燕妮 | 申请(专利权)人: | 江苏美伦影像系统有限公司 |
主分类号: | G06T15/08 | 分类号: | G06T15/08;G06T5/00 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 绘制 方法 | ||
1.一种体绘制方法,其特征在于,包括如下步骤:
A,通过CT扫描获取二维断层图像;
B,对获得的二维断层图像进行平滑去噪处理,去除图像中的噪声点;
C,对去噪后的图像进分割处理,滤除无关背景部分,保留图像中的有用部分;
D,采用改进的光线投射算法对三维体数据进行重建。
2.根据权利要求1所述的一种体绘制方法,其特征在于,所述步骤B中对二维断层图 像进行平滑去噪处理的方法,包括如下步骤:
B1,使用改进的中值滤波算器对图像进行滤波处理,除去图像中的细小噪声点;
B2,通过开运算去除图像中的细小毛刺。
3.根据权利要求1所述的一种体绘制方法,其特征在于,所述步骤C中对去噪后的图 像进行分割处理的方法,包括如下步骤:
C1,使用Prewitt算子对图像边缘进行检测;
C2,根据步骤C1获得的图像边缘分割出图像中的有用部分;
C3,滤除图像中的无关的背景部分,减少待处理的数据量。
4.根据权利要求1所述的一种体绘制方法,其特征在于,所述步骤D中改进的光线投 射算法,具体过程为:
D1,对原始图像进行序列分割,得到分割后的二值图像;
D2,以分割后的二值图像为蒙板,对原始图像进行蒙板处理,得到需绘制部分的图像;
D3,构造层次包围盒;
D4,进行光线投射处理。
5.根据权利要求2所述的一种体绘制方法,其特征在于,所述改进的中值滤波器为门限 递推中值滤波器,过程为,对像素点f(x,y)在邻域窗口内求中值时,先对窗口内的像素求均 值average,若像素点f(x,y)不大于均值average,则不进行滤波,若像素点f(x,y)大于均值 average,则用递推法求中值g(x,y),并用中值g(x,y)代替原来的像素点f(x,y)。
6.根据权利要求2所述的一种体绘制方法,其特征在于,所述利用开运算去除图像中的 细小毛刺,过程为,先对图像进行腐蚀处理,将细小毛刺清除,同时图像边缘内缩,然后对 图像进行膨胀处理,将图像边缘进行复原。
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