[发明专利]带有DBR层的太赫兹光电导天线外延结构及制备方法在审

专利信息
申请号: 201610110101.3 申请日: 2016-02-29
公开(公告)号: CN105589119A 公开(公告)日: 2016-05-18
发明(设计)人: 郭春妍;徐建星;倪海桥;汪韬;牛智川 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 带有 dbr 赫兹 电导 天线 外延 结构 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于半导体材料与器件技术领域,涉及一种带有DBR层的太赫 兹光电导天线外延结构及制备方法。

背景技术

太赫兹是指频率在0.1-10THz,相对应波长在3000-30μm范围内的电 磁波。因其介于微波和红外波段之间而具有两个区域波段的特性。通信方 面,太赫兹波具有较高的频率和较好的穿透性而具有重要发展价值;精细 成像和物质检测方面,由于其具有强穿透性,并且极性分子的转动能级多 在这一波段,太赫兹波具有物质分辨的能力,有着重要的科学研究价值。 太赫兹有着上述的诸多优点,已然成为下一代信息产业的发展方向。

太赫兹光电导天线是产生与探测太赫兹的最重要的一种光电器件。它 采用飞秒激光泵浦到天线上,在外加电压的作用下,天线内产生的光生载 流子在天线表面附近形成快速震荡的电流,从而向外辐射太赫兹。在太赫 兹光电导天线的制作过程中,外延材料的结构对天线发射和接收的性能有 着重要的影响。目前,制备太赫兹天线外延材料采用较多的方法是在GaAs 衬底上使用分子束外延(molecularbeamepitaxial,MBE)设备低温生 长GaAs。此种方法生长的低温GaAs厚度较厚,并且产生的光生载流子多 不在表面,泵浦光的利用效率较低。

专利引入DBR结构以提高外延材料对泵浦光的吸收效率。布拉格反 射镜(DistributedBraggReflector,DBR)是由光学厚度为1/4波长的 高折射率和低折射率两种材料交替生长而成的层状结构,研究表明这种结 构对特定波长的光的反射率可达99%以上。本发明采用DBR结构,可以减 少低温GaAs的生长厚度,有效的提高外延材料表面对泵浦光的利用率, 增强太赫兹天线辐射出的太赫兹波强度。

发明内容

本发明的目的在于,提供一种带有DBR层的太赫兹光电导天线外延结 构及制备方法,通过增加并改变DBR结构材料的组成以及重复的周期数, 从而提高外延层对光的吸收效率,提高太赫兹天线的辐射性能。

本发明提供一种带有DBR层的太赫兹光电导天线的外延结构,包括:

一半绝缘衬底;

一缓冲层,其制作在半绝缘衬底上;

一DBR结构,其制作在缓冲层上;

一低温层,其制作在DBR结构上。

本发明还提供一种带有DBR层的太赫兹光电导天线的外延结构的制备 方法,包括如下步骤:

步骤1:取一半绝缘衬底;

步骤2:在半绝缘衬底上生长缓冲层;

步骤3:在缓冲层上生长DBR结构;

步骤4:在DBR结构上生长低温层。

步骤5:退火,完成制备。

本发明的有益效果是,其是通过增加并改变DBR结构材料的组成以及 重复的周期数,从而提高外延层对光的吸收效率,提高太赫兹天线的辐射 性能。

附图说明

为进一步说明本发明的技术内容,以下结合实施例及附图详细说明如 后,其中:

图1为本发明的外延结构示意图;

图2为本发明的制备流程图。

具体实施方式

请参阅图1所示,本发明提供一种带有DBR层的太赫兹光电导天线的 外延结构,包括:

一半绝缘衬底10,该半绝缘衬底10的厚度为300-400μm;

一缓冲层20,其制作在半绝缘衬底10上,缓冲层20的厚度在50-500nm 之间,生长此层可使得衬底表面平整;

一DBR结构30,其制作在缓冲层20上,所述DBR结构30包括一AlGaAs 层31和制作在其上的GaAs层32,所述DBR结构30为周期结构,周期数 为2-30。这种DBR结构30与半绝缘衬底10晶格匹配无应力,其反射的中 心波长为天线使用时的泵浦光波长。利用此DBR结构30对天线使用时的 泵浦光的高反射作用,提高外延层对光的吸收效率,进而提高太赫兹天线 的辐射性能。

一低温层40,其制作在DBR结构30上。此低温层40是在150-500℃ 之间的温度的范围内生长的GaAs材料,厚度为1-3μm。这样一种低温层 40的载流子寿命短,电子空穴复合速度快,对应的震荡电流的变化频率在 太赫兹级别,从而可以向外辐射出太赫兹波。

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