[发明专利]氮气反应溅射制备CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器及制作方法有效
申请号: | 201610111320.3 | 申请日: | 2016-02-29 |
公开(公告)号: | CN105698929B | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 朱京涛;朱圣明;金长利;朱运平 | 申请(专利权)人: | 苏州宏策光电科技有限公司 |
主分类号: | G01J3/26 | 分类号: | G01J3/26 |
代理公司: | 北京华识知识产权代理有限公司 11530 | 代理人: | 赵永强 |
地址: | 215400 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氮气 反应 溅射 制备 cocr sb 紫外 多层 人工 晶体 单色 制作方法 | ||
1.一种CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器,其特征在于:
该单色器包括基底(1),其上面依次层叠有打底层(2)、CoCr/Sb周期多层膜人工晶体(5)及保护层(6);所述CoCr/Sb周期多层膜人工晶体(5)由CoCr膜(3)和Sb膜(4)周期性构成。
2.根据权利要求1所述的CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器,其特征在于,所述的基底(1)的材料可为硅片或玻璃。
3.根据权利要求1所述的CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器,其特征在于,所述的打底层(2)镀制在基底(1)上,材料是金属Cr,厚度为5-10纳米。
4.根据权利要求1所述的CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器,其特征在于,所述的CoCr/Sb周期多层膜人工晶体(5)镀制在打底层(2)上,所镀制的第一层是CoCr膜(3),厚度为1-5nm,最后一层是Sb膜(4),厚度为1-5nm,周期数为50-100,总厚度为200-400纳米。
5.根据权利要求1所述的CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器,其特征在于,所述的保护层(6)镀制在CoCr/Sb周期多层膜人工晶体(5)上,材料为C或B4C,厚度为2-5纳米。
6.一种CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器的制作方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
1)在硅片或玻璃基底(1)上镀制Cr膜层,作为打底层(2);
2)在打底层(2)上镀制CoCr/Sb周期多层膜人工晶体(5);
3)在CoCr/Sb周期多层膜人工晶体(5)上镀制C或B4C保护层即可得到CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器。
7.根据权利要求6所述的CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器的制作方法,其特征在于,镀制步骤1)-步骤3)中所述的打底层(2)和CoCr/Sb周期多层膜人工晶体(5)均采用磁控溅射方法。
8.根据权利要求6所述的CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器的制作方法,其特征在于,步骤2)中所述的镀制CoCr/Sb周期多层膜人工晶体(5)中CoCr膜(3)和Sb膜(4)的厚度比为1:1。
9.根据权利要求6所述的CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器的制作方法,其特征在于,步骤1)-步骤3)中所述的CoCr/Sb周期多层膜人工晶体(5)和保护层(6)所采用的CoCr靶、Sb靶和B4C靶的纯度均在99.5%以上。
10.根据权利要求6所述的CoCr/Sb极紫外多层膜人工晶体单色器的制作方法,其特征在于,镀制步骤1)中所述的打底层(2)前本底真空优于8×10-5帕斯卡。
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