[发明专利]一种类金刚石薄膜离子源中离子的引出装置

权利要求书

1.一种类金刚石薄膜离子源中离子的引出装置，包括安装于保护外壳左端的隔板，隔板中部横向安装有工艺气体进气管，隔板左端面安装有内部挡板，内部挡板外周的隔板上固定有安装法兰，其特征在于，所述的安装法兰上安装有离子源挡圈，内部挡板外侧间隔安装有工艺气体扩散板，工艺气体扩散板外周设有贯穿安装在内部挡板和隔板上的阳极，阳极与工艺气体扩散板之间设有钨丝；所述的阳极包括支座及引导管、保护筒，保护筒内孔中设有支座，支座为三根呈品字型分布的固定杆，固定杆贯穿保护筒，固定杆一端固定于内部挡板和隔板，另一端铰接安装有连杆，连杆端部连接于引导管一端的外壁上，引导管与工艺气体进气管同轴；支座相对钨丝的高出3～10mm，阳极偏压40～125V；所述的保护外壳内腔中设有位于工艺气体进气管出口端一侧的磁铁。

2.根据权利要求1所述的类金刚石薄膜离子源中离子的引出装置，其特征在于，所述的工艺气体扩散板距离内部挡板距离1.5～5mm，其形状为直径50～95mm的圆板，圆板中心设有喇叭孔，喇叭孔的小端朝向工艺气体进气管进口端且等高。

3.根据权利要求1所述的类金刚石薄膜离子源中离子的引出装置，其特征在于，所述的引导管的长度一般为35～80mm，壁厚0.5～2.5mm，外径15～35mm。

4.根据权利要求1所述的类金刚石薄膜离子源中离子的引出装置，其特征在于，所述的离子源挡圈整体为筒体形，筒体两端设有带有通孔的环形板，进口端通孔直径为55～125mm。

5.根据权利要求1所述的类金刚石薄膜离子源中离子的引出装置，其特征在于，所述的钨丝直径为25～55mm，钨丝中部折弯成波浪形，左右还设有两段水平延伸段，延伸段末端向上折弯成U形，钨丝固定于固定架上，固定架安装于离子源挡圈左端。