[发明专利]包括具有间隙或空隙的栅极间隔件的器件及其形成方法有效
| 申请号： | 201610116599.4 | 申请日： | 2016-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN106252410B | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 江国诚;蔡庆威;刘继文;梁英強 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L21/336;H01L29/423;H01L21/28 |
| 代理公司： | 11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司 | 代理人： | 章社杲;李伟<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 包括 具有 间隙 空隙 栅极 间隔 器件 及其 形成 方法 | ||
【权利要求书】：
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