[发明专利]一种吸收且连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层

权利要求书

1.一种吸收且连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于： 它包括基层，反射层、吸收层、减反层和防护层，所述基层表面设置 反射层，所述反射层上端设置吸收层，所述吸收层上设置减反层，所 述减反层表面设置有防护层。

2.根据权利要求书1所述的一种吸收且连续可调的太阳光谱选择 性吸收涂层，其特征在于，所述减反层包括金属亚层、半导体锗亚层 和复合层，所述混合层采用金属氧化层与非金属氮化层复合而成。

3.根据权利要求书1所述的一种吸收且连续可调的太阳光谱选择 性吸收涂层，其特征在于，所述基层采用三层结构，所述基层由下至 上依次包括铝基层、导热硅胶层和纳米氧化铝层。

4.根据权利要求书2所述的一种吸收且连续可调的太阳光谱选择 性吸收涂层，其特征在于，所述金属亚层采用钛、铜、银、金或镍中 的一种作为材料。

5.根据权利要求书2所述的一种吸收且连续可调的太阳光谱选择 性吸收涂层，其特征在于，所述复合层中金属氧化层采用铜、银、铂 或金的一种，所述非金属氮化层主要采用氮化硅、氮化硼、五氮化三 磷中的一种。

6.根据权利要求书2所述的一种吸收且连续可调的太阳光谱选择 性吸收涂层，其特征在于，所述复合层的制备方法是采用提拉镀膜法 分别涂覆金属氧化层和非金属氮化层，加入马弗炉以300℃的条件下 湿透5-10min，然后自然冷却至室温。

7.根据权利要求书1所述的一种吸收且连续可调的太阳光谱选择 性吸收涂层，其特征在于，所述减反层采用以二氧化硅为主材料的改 性减反层，所述减反层的改性材料为二氧化钛、二氧化铂或二氧化锡 中的一种，所述二氧化硅与改性材料的配比10:3。

8.根据权利要求书1所述的一种吸收且连续可调的太阳光谱选择 性吸收涂层，其特征在于，所述防护层主要采用高透防老化层。

9.根据权利要求书1所述的一种吸收且连续可调的太阳光谱选择 性吸收涂层，其特征在于，所述基层的厚度为0.2-10mm；所述反射 层的厚度为50-200nm；所述半导体锗亚层的厚度为0nm-25nm；金属 亚层的厚度为2-20nm；复合层的厚度为0-120nm，所述减反层为 12-30nm，所述防护层为30-60nm。