[发明专利]大曲率透镜表面用的红外紫外截止滤光膜结构及制作方法

权利要求书

1.一种大曲率透镜表面用的红外紫外截止滤光膜结构的制作方法，其中大曲率透镜表面用的红外紫外截止滤光膜结构包括大曲率透镜，所述大曲率透镜上设置有红外紫外截止滤光膜，该红外紫外截止滤光膜包括依次交替堆叠在大曲率透镜上的低折射率膜层和高折射率膜层；所述红外紫外截止滤光膜为45层的多膜层结构;

其特征是制作方法包括以下步骤：

步骤一，镀膜前，以大曲率透镜为基片，将基片加温，加热温度为150±20℃；

步骤二，将经过步骤一加热处理后的基片进行离子轰击处理：在真空压力为（8.0±2）×10^-4Pa下，启动RF离子源，所述RF离子源的参数为：beam voltage：800V，beam current：800mA，离子轰击时间为60s；

步骤三，在基片上镀第一层膜，该第一层膜为低折射率膜层，镀膜时使用的材料为SiO₂，镀膜的膜层厚度为81.6±1nm，镀膜时的真空压力为（8.0±2）×10-⁴Pa，蒸发速率为8.0±2Å /s；

步骤四，在第一层膜上镀第二层膜，该第二层膜为高折射率膜层，镀膜时使用的材料为Ti₃O₅ 或Ta₂O₅，镀膜的膜层厚度为7.6±1nm，镀膜时的真空压力为（1.6±0.3）×10-²Pa，蒸发速率为4.0±1.5 Å /s；

步骤五，接下来，在第二层膜上依次交替蒸发并形成第三层膜和第四层膜，也就是在第二层膜上依次交替蒸发并形成低折射率膜层和高折射率膜层，膜层厚度如膜层厚度表所示，镀膜时的真空压力和蒸发速率分别与步骤三和步骤四相同；

步骤六，按照步骤五依次镀完45层膜；

所述红外紫外截止滤光膜中的各膜层厚度见膜层厚度表：

膜层数	材料	膜厚(nm)	膜层数	材料	膜厚(nm)
1	低折射率膜层	81.6±1	24	高折射率膜层	94.3±1
2	高折射率膜层	7.6±1	25	低折射率膜层	174.8±1
3	低折射率膜层	44.3±1	26	高折射率膜层	104.4±1
4	高折射率膜层	94.3±1	27	低折射率膜层	147.7±1
5	低折射率膜层	132.8±1	28	高折射率膜层	86.8±1
6	高折射率膜层	79.6±1	29	低折射率膜层	157.7±1
7	低折射率膜层	122.4±1	30	高折射率膜层	100.9±1
8	高折射率膜层	79±1	31	低折射率膜层	152.5±1
9	低折射率膜层	116.6±1	32	高折射率膜层	88±1
10	高折射率膜层	80.4±1	33	低折射率膜层	143.5±1
11	低折射率膜层	112.2±1	34	高折射率膜层	93±1
12	高折射率膜层	82±1	35	低折射率膜层	163.6±1
13	低折射率膜层	108.6±1	36	高折射率膜层	105.9±1
14	高折射率膜层	83.4±1	37	低折射率膜层	168.7±1
15	低折射率膜层	106.6±1	38	高折射率膜层	105.6±1
16	高折射率膜层	83.8±1	39	低折射率膜层	166.5±1
17	低折射率膜层	106.2±1	40	高折射率膜层	102.8±1
18	高折射率膜层	83.9±1	41	低折射率膜层	164.7±1
19	低折射率膜层	108.2±1	42	高折射率膜层	101.8±1
20	高折射率膜层	83.1±1	43	低折射率膜层	158.2±1
21	低折射率膜层	113.1±1	44	高折射率膜层	89.4±1
22	高折射率膜层	82.8±1	45	低折射率膜层	70.9±1
23	低折射率膜层	123.3±1