[发明专利]一种阵列基板及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

透明基板；

位于透明基板一侧的薄膜晶体管、栅线和数据线；

位于透明基板另一侧的遮光层，所述遮光层在所述透明基板上的正投影覆 盖所述薄膜晶体管、栅线和数据线在所述透明基板上的正投影。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层在所述透明 基板上的正投影与所述薄膜晶体管、栅线和数据线在所述透明基板上的正投影 图形相同。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层为氧化钼遮 光层或者氧化钼铌遮光层。

4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括： 位于透明基板与遮光层之间的静电屏蔽层。

5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层为黑矩阵遮 光层。

6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括： 位于遮光层远离所述透明基板一侧的保护层。

7.一种显示装置，其特征在于，包括背光模组和显示面板，所述显示面 板包括彩膜基板、如权利要求1～6任一项所述的阵列基板以及位于所述彩膜基 板和阵列基板之间的液晶层，其中，所述阵列基板位于所述彩膜基板远离所述 背光模组的一侧。

8.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：

在透明基板的一侧形成薄膜晶体管、栅线和数据线；

在透明基板的另一侧形成遮光层，所述遮光层在所述透明基板上的正投影 覆盖所述薄膜晶体管、栅线和数据线在所述透明基板上的正投影。

9.如权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述遮光层在所述透明 基板上的正投影与所述薄膜晶体管、栅线和数据线在所述透明基板上的正投影 图形相同。

10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述遮光层为氧化钼遮 光层或者氧化钼铌遮光层。

11.如权利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述方法还包括：

在透明基板与遮光层之间形成静电屏蔽层。

12.如权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述遮光层为黑矩阵遮 光层。

13.如权利要求12所述的制造方法，其特征在于，所述在透明基板的另 一侧形成遮光层，所述遮光层在所述透明基板上的正投影覆盖所述薄膜晶体 管、栅线和数据线在所述透明基板上的正投影，具体包括：

在透明基板的另一侧沉积遮光层薄膜；

在薄膜晶体管、栅线和数据线一侧，采取自对位曝光方式对基板进行曝光；

对曝光处理后的遮光层薄膜进行显影，形成遮光层，所述遮光层在所述透 明基板上的正投影覆盖所述薄膜晶体管、栅线和数据线在所述透明基板上的正 投影。

14.如权利要求8～13任一项所述的制造方法，其特征在于，所述方法还 包括：

在遮光层的远离透明基板的一侧形成保护层。