[发明专利]基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹方法

权利要求书

1.一种基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹方法，其特征在于按下列步骤进行：

a、将两种拥挤试剂聚乙二醇和聚苯乙烯分别溶解在四氢呋喃溶液中，将质量百分数为0.035%的安石榴林，溶解在质量分数为68.35%的含有两种拥挤试剂的四氢呋喃溶液中；

b、再加入质量分数2.48%的丙烯酰胺、质量分数20.80%的二甲基丙烯酸乙二醇酯、质量分数6.92%的甲苯和质量分数为1.40%的偶氮二异丁腈，超声10分钟，溶解待溶液澄清，转移至长100mm，直径4.6mm的不锈钢管柱中，封住不锈钢柱管两端，于温度55℃恒温水浴中热引发反应24小时；

c、将合成的不锈钢柱取出，装上柱头，连接于高压输液泵，分别以150mL四氢呋喃，100mL甲醇-乙酸=9:1的混合液以及50mL纯甲醇为流动相，控制流速为1.0mL/min进行冲洗，即可得到安石榴林印迹整体柱。

2.如权利要求1所述的基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹整体柱的方法，其特征在于步骤a中四氢呋喃中两种拥挤试剂聚乙二醇浓度为19.4mg/mL，聚苯乙烯的浓度为40mg/mL。

3.如权利要求1所述的基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹整体柱的方法，其特征在于步骤a中聚乙二醇的平均相对分子质量为6,000，聚苯乙烯的平均相对分子质量为350,000。

4.如权利要求1所述的基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹整体柱的方法，其特征在于步骤a中安石榴林和步骤b中丙烯酰胺的质量比为1:70.8。