[发明专利]气流流向调整系统

说明书

本发明涉及一种气流流向调整系统，用于烘烤设备的烘烤制程中，通过排气孔设置于所述容纳本体的侧壁，避免灰尘从第一开口以及第二开口带出外部，以改善液晶显示器的制程中环境的洁净度，并且通过流向控制单元导引所述气体朝向所述基板的表面以外的空间传入所述容纳本体内，以避免在液晶显示器的基板产生水痕。

【技术领域】

本发明涉及一种烘烤设备的技术领域，且特别是涉及一种气流流向调整系统，用于烘烤设备的烘烤制程中，以改善液晶显示器的制程中环境的洁净度，并且避免在液晶显示器的基板产生水痕。

【背景技术】

低溫多晶矽(Low Temperature Poly-silicon；簡稱LTPS)是新一代薄膜電晶體液晶顯示器(TFT LCD)的製造流程。在LTPS制程中，有机光阻层在显影烘烤后，还要经过平坦化烘烤設備(PLN-OVEN)的烘烤，以达到将溶剂全部蒸发的效果，以利于后续制程的施作；由於LTPS工艺对有机光阻层的制程以及环境的要求较高，故需要严格控制环境以及气体對於製程的影响。

當进入平坦化烘烤設備内的制程气体向維修侧(maintenance side)以及基板進出側(shutter side)排出气体时，会对平坦化烘烤設備机台周围的环境產生不良的影响，并且气体在通入设备时是向下直接對基板淨化(purge)時，此种朝下方式对产品将会造成水痕跡的危险，使基板的表面不夠平坦化，導致液晶顯示器的顯示品質下降。因此需要发展一种新式的气流流向调整系统，以解决上述的问题。

【发明内容】

有监于此，本发明的目的在于提供一种气流流向调整系统，用于烘烤设备的烘烤制程中，以改善液晶显示器的制程中环境的洁净度，并且避免在液晶显示器的基板产生水痕。

为达到上述发明目的，本发明实施例中提供一种气流流向调整系统，适用于烘烤设备的烘烤制程，包括：容纳本体，用以形成一反应腔室以收容一基板于所述反应腔室中，所述容纳本体包括第一开口以及相对所述第一开口的第二开口；第一门板组件，枢接于所述容纳本体并且选择性覆盖所述第一开口，用以开启所述第一开口以使所述容纳本体形成开放状态，或是关闭所述第一开口以使所述容纳本体形成密闭状态；流向控制单元，设置于所述容纳本体内并且设有若干进气孔，所述流向控制单元用以接收气体并且通过所述若干进气孔导引所述气体朝向所述基板的表面以外的空间传入所述容纳本体内，使所述传送气体充满于所述反应腔室中以涵盖所述基板；以及加热装置，设置于所述容纳本体内，用以对所述反应腔室中的气体加热，通过加热后的所述气体流经所述基板的表面，以烘烤所述基板上的图案，以使所述基板上的图案形成固化。

在一实施例中，所述容纳本体还包括：一底部；一顶部，相对设置于所述底部的异侧；以及一侧壁，连接于所述底部与所述顶部之间，使所述底部、所述顶部以及所述侧壁形成所述反应腔室。

在一实施例中，所述流向控制单元与所述顶部的边缘定义为第一方向，所述流向控制单元与所述基板的边缘定义为第二方向，所述若干进气孔导引所述气体从所述第一方向与所述第二方向之间的夹角区域进入所述反应腔室。

在一实施例中，所述流向控制单元还包括：一第一管路，用以接收所述气体；以及一第二管路，连接所述第一管路，所述第二管路包括所述若干进气孔，用以传送所述气体。

在一实施例中，所述第二管路垂直于所述第一门板组件并且平行于所述容纳本体的侧壁。

在一实施例中，气流流向调整系统还包括一支撑装置，固设于所述容纳本体内，用以支撑所述基板。

在一实施例中，气流流向调整系统还包括一第二门板组件，枢接于所述容纳本体，用以开启所述第二开口以使所述容纳本体形成开放状态，或是关闭所述第二开口以使所述容纳本体形成密闭状态。

在一实施例中，所述第一门板组件以及所述第一开口为所述气流流向调整系统的维修侧边，所述第二门板组件以及所述第二开口为所述基板的进出侧边。