[发明专利]一种分散体系反应装置

说明书

技术领域

本发明属于化工设备技术领域，尤其涉及一种分散体系反应装置。

背景技术

石墨粉末金属包覆材料具有独特的结构和众多奇异的物理化学性质，在诸 多科学技术领域显示出巨大的潜在应用价值，近年来逐渐成为国内外关注的一 个研究热点。

在石墨粉末金属包覆制备过程中，由于石墨粉末的小尺寸效应、量子尺寸 效应、界面与表面效应以及宏观量子隧道效应，使石墨粉末在空气中和液体介 质中容易发生团聚，若不对其进行分散处理，则大大影响产品性能。现有技术 中常用机械搅拌的方式对分散体系进行搅拌，但是机械搅拌形式单一，并不能 满足粉体分散性的要求。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术存在机械搅拌不能满足粉体分散性的 要求的缺陷，提供一种分散体系反应装置。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种分散体系反应装 置，包括釜体、机械搅拌装置、空气搅拌装置和隔膜泵；所述的机械搅拌 装置设置在所述釜体内，所述的空气搅拌装置包括若干靠近所述釜体内壁 设置的气管，所述气管沿所述釜体高度方向设置，所述气管上开设有若干 气孔；

所述釜体底部呈锥形，所述釜体底部中心设置有循环接口，所述釜体 内上端设置有雾化喷头，所述雾化喷头高度高于釜体内分散体系液面高 度，所述循环接口和雾化喷头通过隔膜泵连接。

作为优选，所述的机械搅拌装置包括搅拌轴和两个搅拌桨，两个所述 搅拌桨分别安装在搅拌轴的不同高度位置上。利用高度不同的两个搅拌桨 能够有效将釜体内不同高度的物料进行搅拌，使得分散体系中的粉体物料 均匀分散。

作为优选，所述气孔朝向釜体内壁开设。能够有效避免分散体系中粉 体物料在气管与釜体的间隙处团聚，避免搅拌死角的存在。

进一步地，为避免粉体在釜体底部团聚、沉积，所述气管底部具有与 所述釜体锥形底部相适应的折弯端，所述折弯端上也开设有气孔，所述折 弯端上的气孔朝向釜体底部开设。

作为优选，所述的气管数量为6个，6个所述气管靠近所述釜体内壁 均匀设置。

作为优选，为便于气管的安装和固定，所述的釜体内壁设置有若干用 于安装所述气管的连接座。

作为优选，为使得循环回流的物料能够均匀分散至釜体内，所述的雾 化喷头数量为两个，且对称设置在釜体的上端。

有益效果：本申请中利用集机械搅拌、空气辅助搅拌以及循环回流搅 拌方式于一体，气管能够对釜体内的不同高度进行辅助搅拌，有效避免粉 体的团聚，同时在釜体底部利用隔膜泵将物料循环回流至雾化喷头，最终 经雾化喷头雾化并喷洒在釜体内的分散体系中，避免了釜体底部物料团聚 沉积的问题，使得分散体系的分散均匀性更好。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

图1是装置剖视图；

图2是装置俯视图；

其中:1.釜体，11.连接座，2.搅拌轴，3.搅拌桨，4.气管，41.折弯 端，5.隔膜泵，6.雾化喷头。

具体实施方式

实施例

如图1和2所示，一种分散体系反应装置，包括釜体1、机械搅拌装 置、空气搅拌装置和隔膜泵5；所述的机械搅拌装置设置在所述釜体1内， 包括搅拌轴2和两个搅拌桨3，两个所述搅拌桨3分别安装在搅拌轴2的 不同高度位置上；

所述的空气搅拌装置包括6个靠近所述釜体1内壁均匀设置的气管4， 所述气管4沿所述釜体1高度方向设置，所述气管4上开设有若干气孔， 所述气孔朝向釜体1内壁开设；所述气管4底部具有与所述釜体1锥形底 部相适应的折弯端41，所述折弯端41上也开设有气孔，所述折弯端41 上的气孔朝向釜体1底部开设，所述的釜体1内壁设置有若干用于安装所 述气管4的连接座；

所述釜体1底部呈锥形，所述釜体1底部中心设置有循环接口，所述 釜体1内上端对称设置有两个雾化喷头6，所述雾化喷头6高度高于釜体 1内分散体系液面高度，所述循环接口和雾化喷头6通过隔膜泵5连接。