[发明专利]投影装置及其校正方法

权利要求书

1.一种投影装置的校正方法，该投影装置用于投影画面至成像区域， 其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤S101，发射基准点至该成像区域；

步骤S102，获取具有该基准点的影像；

步骤S103，根据该影像得到该基准点的位置，并根据该基准点的位置校正 该投影画面。

2.如权利要求1所述的投影装置的校正方法，其特征在于，该步骤S103 还包括，根据该影像上的该基准点于该影像的坐标位置确定该基准点的位置。

3.如权利要求1或者2所述的投影装置的校正方法，其特征在于，该 步骤S103还包括，根据该基准点的位置和公式F得到对应的投影距离，并根 据该投影距离对该投影画面进行对焦，其中公式F为：Y＝aX+b，其中a和b为 已知常数，Y为基准点的位置，X为投影距离。

4.如权利要求1所述的投影装置的校正方法，其特征在于，该步骤S101 包括，同时发射至少两个基准点至该成像区域；该步骤S102包括，获取具有 该至少两个基准点的影像；该步骤S103包括，根据该影像确定该至少两个基 准点的位置，根据该至少两个基准点的位置和对应的公式F得到该至少两个基 准点对应的投影距离，进而根据该至少两个基准点对应的投影距离对该投影画 面进行校正，其中公式F为：Y＝aX+b，其中a和b为已知常数，Y为该基准点 的位置，X为投影距离。

5.如权利要求4所述的投影装置的校正方法，其特征在于，该步骤S103 还包括，比较该至少两个基准点对应的投影距离，若该至少两个基准点对应的 投影距离相同，则根据该至少两个基准点对应的投影距离对该投影画面进行对 焦；若该至少两个基准点对应的投影距离不全相同，则根据该至少两个基准点 对应的投影距离确定投影的歪斜投影角，进而根据该至少两个基准点对应的投 影距离和该歪斜投影角对该投影画面进行梯形校正和对焦。

6.如权利要求4所述的投影装置的校正方法，其特征在于，该发光装 置发射至少两束光线至该成像区域以于该成像区域形成该至少两个基准点，其 中，该至少两束光线相交或者平行。

7.一种投影装置，用于投影画面至成像区域，其特征在于，该投影装 置包含：

发光装置，用于发射基准点至该成像区域；

影像捕获装置，用于获取具有该基准点的影像；

处理模块，耦接于该影像捕获装置，用以接收并分析该影像捕获装置发送 的该影像；

校正单元，耦接于该处理模块，用以对投影画面进行校正；

其中，该处理模块根据该影像得到该基准点的位置，并根据该基准点的位 置控制该校正单元校正该投影画面。

8.如权利要求7所述的投影装置，其特征在于，该处理模块根据该影 像上的该基准点于该影像的坐标位置确定该基准点的位置。

9.如权利要求7或者8所述的投影装置，其特征在于，该处理模块是 根据该基准点的位置和公式F得到对应的投影距离，进而根据该投影距离控制 该校正单元对该投影画面进行对焦，其中公式F为：Y＝aX+b，其中a和b为已 知常数，Y为基准点的位置，X为投影距离。

10.如权利要求7所述的投影装置，其特征在于，该发光装置具有至少 两个发光单元，该至少两个发光单元同时发射至少两个基准点至该成像区域； 该影像捕获装置获取具有该至少两个基准点的影像，并发送给该处理模块，该 处理模块根据该影像确定该至少两个基准点的位置，根据该至少两个基准点的 位置和对应的公式F得到该至少两个基准点对应的投影距离，进而控制该校正 单元根据该投影距离对投影画面进行校正，其中公式F为：Y＝aX+b，其中a和 b为常数，Y为该基准点的位置，X为投影距离。