[发明专利]高度清洁的洁齿剂组合物

说明书

本申请是申请日为2010年7月23日，申请号为201080034976.0(国 际申请号为PCT/US2010/043007)，发明名称为“高度清洁的洁齿剂组 合物”的发明专利申请的分案申请。

相关申请的交叉引用

本申请要求2009年7月31日递交的美国临时专利申请号 61/230321的优先权，其通过引用结合到本文中。

背景

实施方案涉及含有少量的相对小粒度高度清洁磨料而不含抗菌 剂、氟化物及其它口腔护理活性物质的洁齿剂组合物。特别地，洁齿 剂组合物具有良好的染色(stain)去除特性。洁齿剂组合物可以包封 (encapsulated)组合物、固态糖食组合物、胶等形式存在，其可任选地 位于刷牙装置的刷毛内。

常规磨料包括硅石(例如为硅胶、水合硅石或沉淀硅石形式)、氧 化铝、不溶性磷酸盐、碳酸钙、树脂磨料比如脲-甲醛缩合产物等。 可用作磨料的不溶性磷酸盐中有正磷酸盐、聚偏磷酸盐和焦磷酸盐。 例证性的实例为正磷酸二钙二水合物、焦磷酸钙、β-焦磷酸钙、磷酸 三钙、聚偏磷酸钙、三聚磷酸钠(STPP)、焦磷酸四钠(TSPP)和不溶性 聚偏磷酸钠。一种或多种磨料通常以一般为5％-70％，例如10％-50％ 或15％-30％(组合物重量)的磨料有效总量存在于洁齿剂中。磨料的平 均粒度通常为0.1-30μm，例如1-20μm或5-15μm。

合成生产的硅石作为许多当今牙膏配方中的组分起重要作用。这 样的硅石为相对安全的非毒性组分，其可与其它牙膏组分包括甘油、 山梨醇(或木糖醇)、增稠剂、清洁剂、着色和香料材料以及任选的氟 化物及其它活性物质相容，硅石借以起磨料作用以清洁牙齿、去除牙 菌斑和食物残渣。

作为磨料，硅石清除并物理擦洗牙齿的外表面。该擦洗作用去除 由唾液蛋白形成的有机膜(即表膜，pellicle)，该表膜覆盖牙齿并且已 知由食物比如咖啡、茶和浆果以及由烟草烟雾、阳离子抗菌药物和生 色细菌变得染色和变色。染色表膜的这样的物理去除为去除每天发生 的不合需要的表面染色和变色的简单且有效的手段。另外，表膜的这 样的物理去除还除去表膜表面上的牙菌斑细菌。

合成硅石包括硅胶和沉淀硅石两者，其通过用强的无机酸中和硅 酸盐水溶液得到制备。在硅胶的制备中，形成硅水凝胶，其然后通常 被洗至低含盐量。经洗涤的水凝胶可碾磨至要求的尺寸，或者干燥， 最终至其结构不再由于收缩而变化的地步。当制备这样的合成硅石 时，目的是得到提供最大清洁(即去除染色表膜)伴随对牙釉质及其它 口腔组织的最小损害的磨料。牙科研究人员持续地关注识别出满足这 些目的的合成硅石。

美国专利号4153680和GB专利申请2038303A两者公开硅水凝 胶或水合硅胶作为洁齿剂抛光剂的一般用途。美国专利号4632826公 开水合硅胶与弱煅烧氧化铝抛光剂组合形成组合磨料系统的用途。美 国专利号4943429、5176899和5270033提供了替代性抛光剂列表， 这样的列表包括水合硅胶。

美国专利号5939051公开用具有低磨损和高度清洁产物的硅胶制 备的洁齿剂组合物。然而，该硅胶具有2-4微米的低粒度分布用以获 得低磨损性能。制造这样的小粒度硅胶为能源密集和相对昂贵的。

美国专利号5658553和5651958公开含有具有高度清洁和由其低 的放射性牙本质磨损(RDA)值表示的低磨损的沉淀硅石与硅胶的组合 的洁齿剂组合物。由于在美国专利号5651958和5658553中所描述的 硅石的低磨损性质，组合物固有地具有有限的清洁能力。

RDA值为牙科领域公认的测定洁齿剂配方磨损性的方法，并且 根据美国牙科协会推荐的如由Hefferren，JournalofDentalResearch， 第55卷，刊号4，1976年7-8月，第563-573页阐明的和在Wason美国 专利号4340583、4420312和4421527中描述的方法测定。