[发明专利]双面曝光的装置

权利要求书

1.一种双面曝光的装置，其特征在于：包括工作台面，所述工作台面上 设置有一第一气浮板，所述第一气浮板的上方平行相向设置有第二气浮板， 所述第一气浮板和第二气浮板相对的一面分别均匀布设有连通的排气孔，所 述第一气浮板和第二气浮板之间气浮设置有PCB板，所述第一气浮板和第二 气浮板之间至少一侧设置有驱动装置，所述驱动装置的活动部件上可拆卸连 接PCB板，所述PCB板由活动部件带动移动；所述第一气浮板和第二气浮板 上分别设置有加工通孔，二所述加工通孔的投影贯穿PCB板的处理部位，二 所述加工通孔的上方或下方各设有一能沿加工通孔移动的显影曝光装置，二 所述显影曝光装置的光线分别透过加工通孔射向PCB板的二面。

2.根据权利要求1所述的双面曝光的装置，其特征在于：所述第一气浮 板的加工通孔的下方和第二气浮板的加工通孔的上方设置分别沿通孔设置 有导轨，所述导轨上设置有能沿导轨移动的显影曝光装置。

3.根据权利要求1所述的双面曝光的装置，其特征在于：所述工作台面 的一侧固定有一第一直线电机，所述第一直线电机的动子座上固定有一U形 架，所述U形架的二端分别固定有显影曝光装置，所述第一直线电机驱动U 形架平动，从而使二所述显影曝光装置的光线分别沿加工通孔射向PCB板的 二面。

4.根据权利要求3所述的双面曝光的装置，其特征在于：二所述加工通 孔的上方或下方各设有一滑轨，所述滑轨上分别滑设有滑动座，所述显影曝 光装置固定在滑动座上。

5.根据权利要求1所述的双面曝光的装置，其特征在于：所述显影曝光 装置为LDI曝光装置。

6.根据权利要求1所述的双面曝光的装置，其特征在于：所述驱动装置 为第二直线电机，所述活动部件为固定在第二直线电机动子座上的真空吸 条。

7.根据权利要求1所述的双面曝光的装置，其特征在于：所述工作台面 或第一气浮板或第二气浮板上设置有识别PCB板位置的识别装置。

8.根据权利要求1所述的双面曝光的装置，其特征在于：所述活动部件 在第一气浮板和第二气浮板充气后二者之间的零压力平面上连接PCB板。

9.根据权利要求1所述的双面曝光的装置，其特征在于：所述第二气浮 板排气孔气流方向竖直向下，所述第一气浮板排气孔气流方向竖直向上。

10.根据权利要求1所述的双面曝光的装置，其特征在于：所述第一气 浮板和第二气浮板内的气压及流量均设置为可调节，出气孔的出气压力设置 为可调。