[发明专利]高纯度二氧化硅的工业化生产方法

权利要求书

1.一种高纯度二氧化硅的工业化生产方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)以工业氟硅酸为原料，与氧化剂在蒸馏塔釜内进行反应和蒸馏，得到纯品氟硅酸；

2)以工业液氨为原料，将其通过精制塔得到纯品气氨；

3)将步骤1)得到的纯品氟硅酸与步骤2)得到的纯品气氨在氨化反应釜内反应，得到二氧化硅固体和氟化铵溶液，将二氧化硅固体通过固液分离设备分离出来得到二氧化硅粗品；

4)将步骤3)得到的二氧化硅粗品依次进行水洗、酸洗、水洗与煅烧，得到高纯度二氧化硅；

其中，所述步骤3)中氨化反应的温度为55℃～115℃，反应压力为0.06MPa～0.35MPa，所述步骤4)的煅烧温度为350℃～850℃。

2.根据权利要求1所述的高纯度二氧化硅的工业化生产方法，其特征在于，所述步骤4)的水洗方式均为采用纯水进行逆流式冲洗。

3.根据权利要求2所述的高纯度二氧化硅的工业化生产方法，其特征在于，所述步骤4)的纯水的电导率为0.055～0.1μs/cm。

4.根据权利要求1所述的高纯度二氧化硅的工业化生产方法，其特征在于，所述步骤4)的酸洗所用酸为电子级酸，所述电子级酸选自硫酸、盐酸、氢氟酸、磷酸与氟硅酸中的一种或者多种。

5.根据权利要求1至4任一项所述的高纯度二氧化硅的工业化生产方法，其特征在于，所述步骤1)的氧化剂为高锰酸钾或过氧化氢。

6.根据权利要求1所述的高纯度二氧化硅的工业化生产方法，其特征在于，所述步骤1)的氧化剂为高锰酸钾或过氧化氢。