[发明专利]一种二氟烷基取代的吡啶酮或吡喃酮的合成方法在审
申请号: | 201610134319.2 | 申请日: | 2016-03-09 |
公开(公告)号: | CN105669546A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 贺春阳;李晓飞 | 申请(专利权)人: | 遵义医学院 |
主分类号: | C07D215/227 | 分类号: | C07D215/227;C07D213/64;C07D215/233;C07D311/12;C07D311/16 |
代理公司: | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人: | 黄书凯 |
地址: | 563000 *** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 烷基 取代 吡啶 吡喃酮 合成 方法 | ||
1.一种二氟烷基取代的吡啶酮或吡喃酮的合成方法,其特征在于,包括 以下步骤:于惰性溶剂中,光照条件下,以含铱或/和钌的络合物为光 催化剂,在碱存在下,将吡啶酮和吡喃酮——A,D或F与式B化合物进 行反应,从而形成式二氟烷基取代的化合物——C,E或G;
上述各式中,R1、R2、R3各自独立地为H、C1-30烷基、卤代的C1-30烷基、C2-30烯基、卤代的C2-30烯基、C2-30炔基,被卤素或苯基取代的C2-30炔基、-CONR6R7、-COOC1-30烷基、C1-30烷基-羰基、甲酰基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的噻吩、 取代或未取代的呋喃、取代或未取代的-C=C-COOC1-30烷基中的一个或多个;其中, R1、R2、R3中的取代指基团中一个或多个H被选自下组的取代基所取代:卤素、 C1-30烷基、C1-20烷氧基、-CONR6R7、-COOC1-20烷基、C1-20烷基-羰基或甲酰基;R1和 R2共同构成苯并基或被一个或多个R6所取代的苯并基,其中,R6为选自下组的基 团:氢、氰基、卤素、C1-10烷基、卤代的C1-10烷基、C2-10烯基、卤代的C2-10烯基、 C2-10炔基、卤代的C2-10炔基、C1-10烷氧基、卤代的C1-10烷氧基、-CONR6R7、-COOC1-10烷基、C1-10烷基-羰基、甲酰基、苯基或被一个或多个选自卤素、C1-6烷基、C1-6 烷氧基、-CONR6R7、-COOC1-10烷基、C1-10烷基-羰基或甲酰基的基团所取代的苯基、 -C=C-COOC1-10烷基;
R4独立地为H、C1-30烷基、卤代的C1-30烷基、C2-30烯基、卤代的C2-30烯基、C2-30炔基、被卤素或苯基取代的C2-30炔基、-CONR6R7、-COOC1-30烷基、C1-30烷基-羰基、 甲酰基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的噻吩、取代或未取代的呋喃、取 代或未取代的-C=C-COOC1-30烷基中的;其中,R4中的取代指基团中一个或多个H 被选自下组的取代基所取代:卤素、C1-30烷基、C1-20烷氧基、-CONR6R7、-COOC1-20烷基、C1-20烷基-羰基或甲酰基;
R5各自独立地为H、氰基、C1-20烷基、卤代的C1-20烷基、C2-20烯基、卤代的C2-20烯基、C2-20炔基、卤代的C2-20炔基、-COOC1-20烷基、C1-20烷基-羰基、取代或未取 代的苯基、C1-20烷基取代的膦酸基、C1-20烷基取代的亚膦酸基、取代或未取代的 噻吩、取代或未取代的呋喃;
X为Cl,Br或I。
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