[发明专利]一种芯片封装基板在审
申请号: | 201610135396.X | 申请日: | 2016-03-10 |
公开(公告)号: | CN105702813A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 黄晓东;陈锡园 | 申请(专利权)人: | 上海万寅安全环保科技有限公司;华鼎科技集团有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/48;H01L33/62 |
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地址: | 200031 上海市徐*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 芯片 封装 | ||
技术领域
本发明属于半导体器件制造技术领域,具体涉及一种芯片封装基板。
背景技术
封装基板可为芯片提供电连接、保护、支撑、散热、组装等功效,以实现多引脚化,缩小封装产品体积、改善电性能及散热性、超高密度或多芯片模块化的目的。LED(发光二极管)封装是指发光芯片的封装,LED封装技术大都是在分立器件封装技术基础上发展与演变而来的,但却有很大的特殊性。一般情况下,分立器件的管芯被密封在封装体内,封装的作用主要是保护管芯和完成电气互连。而LED封装则是完成输出电信号,保护管芯正常工作,输出可见光的功能,既有电参数,又有光参数的设计及技术要求,所以对封装材料有特殊的要求,无法简单地将分立器件的封装用于LED。在一般情况下,LED的发光波长随温度变化为0.2-0.3nm/℃,光谱宽度随之增加,影响颜色鲜艳度。当正向电流流经pn结,发热性损耗使结区产生温升,在室温附近,温度每升高1℃,LED的发光强度会相应地减少1%左右,所以封装散热对保持LED色纯度与发光强度非常重要,以往多采用减少其驱动电流的办法,降低结温,多数LED的驱动电流限制在20mA左右。但是,LED的光输出会随电流的增大而增加,很多功率型LED的驱动电流可以达到70mA、100mA甚至1A级,改进封装结构,引入全新的LED封装设计理念和低热阻封装结构及技术来改善LED原有制约性能,在此背景下COB封装技术被越来越广泛地应用于LED封装,COB封装即将多颗芯片直接封装在金属基印刷电路板MCPCB,使用多颗芯片不仅能够提高亮度,还有助于实现LED芯片的合理配置,降低单个LED芯片的输入电流量以确保高效率。另一方面通过COB封装应用于LED灯具,不但可以省工省时,而且可以节省器件封装的成本,总体可以降低30%左右的成本,这对于LED照明的应用推广有着十分重大的意义。但由于目前的COB封装基板均选用金属基板,其最大限度仅能呈现半球形光源,为使LED能更大角度的发光,很多企业均有尝试在透明基板上进行封装LED,透明基板主要有玻璃、PC等,但由于它们的导热散热效果不佳、并且难于在上面制作电极、印刷电路等而被放弃应用于LED芯片COB封装领域。经过改进有些企业采用透明基板,通过溅镀于透明基板上的ITO电路实现芯片与芯片之间的电性导通,同时透明特性不会阻挡LED芯片的出光。由于工艺过程中涉及干法刻蚀设备,因此工艺过程复杂、成本较高。
发明内容
针对现有技术中存在的技术问题,本发明的目的是为了简化现有技术的产品,以铜取代ITO,将铜直接溅镀在透明基板上,制成一种芯片封装基板。
为了实现以上目的,本发明通过以下技术方案实现:
一种芯片封装基板,包括基板层、溅镀层和保护层;所述溅镀层沉积在基板层上,保护层覆在溅镀层上;所述基板层的材料是玻璃或聚合物,所述溅镀层的材料是铜合金,所述保护层的材质是金属或金属氧化物。
进一步,所述基板层的材料是PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PI(聚酰亚胺)、PC(聚碳酸酯)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、COC(环烯烃共聚物)、TCA(三醋酸纤维素)或蓝宝石。
进一步,所述溅镀层分布铜导体线路,所述铜导体的宽度小于4微米,各铜导体相互间隔50-100微米。
进一步,所述基板层的厚度为15-250微米,优选25-75微米。
进一步,所述溅镀层的厚度为0.03-1.5微米,优选0.05-0.5微米。
进一步,所述保护层厚度为所述溅镀层厚度的30-40%。
本发明的芯片封装基板使用了比ITO透明基板相对廉价的导电材料铜,并且具有特定设计的电路图,具有高抗冲击性和低总电阻的性能,可大幅度节约生产成本,提高生产效率,有助于提高后续芯片的封装效率,进而使后续产品更加稳定,因而具有高可视度以及成本竞争力。
附图说明
图1为本发明芯片封装基板的结构示意图。
其中,1.基板层,2.溅镀层,3.保护层。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。
参见图1,本发明的芯片封装基板,包括基板层、溅镀层和保护层;所述溅镀层沉积在基板层上,保护层覆在溅镀层上;所述基板层的材料是玻璃或聚合物,所述溅镀层的材料是铜合金,所述保护层的材质是金属或金属氧化物,所述溅镀采用脉冲电源进行,操作电压介于400伏特至700伏特之间。
本发明的芯片封装基板制备工艺主要包括下述步骤:
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