[发明专利]一种放射性药物纯化去除杂质离子的装置

权利要求书

1.一种放射性药物纯化去除杂质离子的装置，其特征在于，包括：反应釜、 搅拌装置、加热装置、超声波雾化装置、直流恒定电场装置、冷凝装置、过滤 装置和回收装置，所述反应釜包括釜体和釜盖，所述釜盖在其顶部设置有搅拌 电机，而在其侧壁上分别设置有蒸气出口和入料口，所述搅拌电机的输出端并 在其延伸至釜体内部的一侧设置有搅拌装置，所述釜体的底部设置有分离液出 口，所述分离液出口的上部设置有过滤装置，所述釜体的侧壁设置有加热装置， 而在其侧壁上设置有溶剂入口，所述蒸气出口通过直流恒定电场装置与管道外 接冷凝装置的蒸气入口，所述冷凝装置包括冷凝罐体和分布在冷凝罐体上的蒸 气入口、冷凝液出口，所述冷凝液出口通过管道连接回收装置的回收液入口， 所述回收装置包括回收罐体和罐盖，所述罐盖上设置有回收液入口和进料口， 所述罐体的底部设置有出料口。

2.根据权利要求1所述的放射性药物纯化去除杂质离子的装置，其特征在 于，所述反应釜为超声波反应釜，所述超声波反应釜在其反应釜的底部，且在 其内壁与外壁之间设置有超声波发生器，所述超声波发生器用于产生雾化的气 体。

3.根据权利要求1所述的放射性药物纯化去除杂质离子的装置，其特征在 于，所述蒸气出口直流恒定电场装置吸附气体阴阳离子。

4.根据权利要求1所述的放射性药物纯化去除杂质离子的装置，其特征在 于，所述搅拌装置包括搅拌轴和搅拌叶片，所述搅拌轴动力连接搅拌电机，所 述搅拌电机为全不锈钢防水伺服电机。

5.根据权利要求1所述的放射性药物纯化去除杂质离子的装置，其特征在 于，所述加热装置为无热源恒温水浴发热装置。

6.根据权利要求1或2所述的放射性药物纯化去除杂质离子的装置，其特 征在于，所述超声波发生器、搅拌装置、加热装置、直流恒定电场装置、冷凝 装置和过滤装置分别设置有独立控制键。