[发明专利]一种偏振拉曼光谱的测定仪器及其测定方法在审
申请号: | 201610139559.1 | 申请日: | 2016-03-11 |
公开(公告)号: | CN107179308A | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 胡匀匀;周桃飞;郑树楠;王建峰;徐科 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | G01N21/65 | 分类号: | G01N21/65;G01J3/44 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人: | 孙伟峰 |
地址: | 215123 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 偏振 光谱 测定 仪器 及其 方法 | ||
1.一种偏振拉曼光谱的测定仪器,用于测定六方晶体的偏振拉曼光谱,所述测定仪器包括依次排列的线激光器、瑞利滤波片和光栅,以及设置于所述瑞利滤波片下方的用于承载六方晶体的样品台;其中,以所述线激光器发射的激光为入射光,所述入射光经由所述瑞利滤波片照射至所述样品台上的六方晶体,以形成入射光路;所述六方晶体经由所述入射光照射产生散射光,所述散射光经由所述瑞利滤波片到达所述光栅,以形成收集光路;其特征在于,所述测定仪器还包括:插设于所述入射光路中的双折射偏光元件和插设于所述收集光路中的检偏器;其中,所述入射光经过所述双折射偏光元件后的偏振方向与所述散射光经过所述检偏器后的偏振方向相互平行或垂直。
2.根据权利要求1所述的测定仪器,其特征在于,所述双折射偏光元件为格兰棱镜,所述瑞利滤波片为陷波滤波器。
3.根据权利要求1或2所述的测定仪器,其特征在于,所述测定仪器还包括夹设于所述线激光器和所述瑞利滤波片之间的依次排列的干涉滤光片、功率衰减片以及若干第一反射片;其中,所述双折射偏光元件插设于所述干涉滤光片和所述功率衰减片之间。
4.根据权利要求3所述的测定仪器,其特征在于,所述测定仪器还包括夹设于所述瑞利滤波片和所述光栅之间的依次排列的第二反射片和狭缝;其中,所述检偏器插设于所述第二反射片和所述狭缝之间。
5.根据权利要求4所述的测定仪器,其特征在于,所述测定仪器还包括夹设于所述检偏器和所述狭缝之间的共聚焦孔。
6.一种基于权利要求1至5任一所述的测定仪器的偏振拉曼光谱的测定方法,其特征在于,所述测定方法包括:
调整所述检偏器的方向,以使所述散射光经过所述检偏器后的偏振方向与所述入射光经过所述双折射偏光元件后的偏振方向相互平行或垂直;
选取所述六方晶体的一表面作为测试面,并确定所述测试面的表面法线;其中,所述表面法线是指垂直于所述测试面的垂线;
旋转采样:将位于初始位置的所述六方晶体围绕所述表面法线沿预设方向旋转α1角度,并达到第一采样点;自所述初始位置至所述第一采样点时的旋转角记为γ1,采集所述六方晶体达到所述第一采样点时的偏振拉曼光谱;
重复所述旋转采样步骤n次,即沿所述预设方向继续旋转α2、……、αn+1角度,所述六方晶体依次达到第二采样点、……、第n+1采样点;自所述初始位置至所述第二采样点、……、第n+1采样点的旋转角分别记为γ2、……、γn+1;直至所述旋转角γn+1的角度不少于180°为止;所述n为自然数;
分别提取所述六方晶体在第一采样点~第n+1采样点时的偏振拉曼光谱中的偏振散射强度,并绘制偏振散射强度-旋转角的趋势图。
7.根据权利要求6所述的测定方法,其特征在于,所述α1、……、αn+1角度的度数范围均为10°~20°。
8.根据权利要求6或7所述的测试方法,其特征在于,所述六方晶体为GaN晶体。
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