[发明专利]一种利用CO2激光裂解聚硅氧烷材料制备SiOC陶瓷涂层的方法有效

专利信息
申请号: 201610140988.0 申请日: 2016-03-11
公开(公告)号: CN105568263B 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 刘军;乔玉林;薛胤昌;张平;臧艳 申请(专利权)人: 中国人民解放军装甲兵工程学院
主分类号: C23C18/14 分类号: C23C18/14;C04B35/56
代理公司: 北京智为时代知识产权代理事务所(普通合伙) 11498 代理人: 王加岭;杨静
地址: 100072*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 陶瓷涂层 聚硅氧烷材料 裂解 制备 惰性气体保护 铁基金属材料 制备聚硅氧烷 制备陶瓷涂层 表面制备 混合溶液 激光扫描 连续高能 耐磨特性 陶瓷表面 铁基金属 制备周期 孔隙率 喷涂法 可控 刷涂 光滑 防腐 激光
【权利要求书】:

1.一种利用CO2激光裂解聚硅氧烷材料制备SiOC陶瓷涂层的方法,其特征在于包括以下步骤:

(1)将聚硅氧烷材料在二甲苯中超声分散10~30min,从而制备得到聚硅氧烷材料混合溶液;

其中步骤(1)中,所述聚硅氧烷材料为分子量为770~13900,相对密度为0.918~0.977的聚硅氧烷;

或者,步骤(1)中,所述聚硅氧烷材料由分子量为770~13900,相对密度为0.918~0.977的聚硅氧烷和颗粒直径不大于75μm的Ti粉组成,并且,所述聚硅氧烷和所述Ti粉的质量比为1:2~3:1;

(2)采用刷涂或喷涂法将其均匀涂覆在铁基金属表面;

(3)室温干燥1~3h后,获得涂层A;

(4)在惰性气体保护下采用连续高能可控激光扫描涂层A,从而在铁基金属表面制备陶瓷涂层,所述激光的输出功率为100~800W。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤(1)中,将聚硅氧烷或聚硅氧烷+Ti粉在二甲苯中超声分散10~30min,其中控制聚硅氧烷溶液的质量分数在50%~75%之间,聚硅氧烷+Ti粉混合溶液的质量分数在75%~88%之间。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述室温干燥是指在室温下干燥1~3h,获得厚度在0.2~0.6mm之间的涂层A。

4.根据权利要求1所述的的方法,其特征在于:所述惰性气体为氩气,其流量控制在350~500mL/min之间。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述激光扫描采用的激光波长为10.6μm,输出功率为100~800W,扫描线速度为5~40mm/s,光斑大小为3mm×3mm,扫描搭接率为3%~5%,扫描路径为S型。

6.权利要求1-5任一所述的方法在提高金属防腐蚀、抗高温、耐磨损性能中的应用。

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