[发明专利]一种片式陶瓷电感器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610141542.X 申请日: 2016-03-11
公开(公告)号: CN105551712B 公开(公告)日: 2017-07-18
发明(设计)人: 梁晓斌;王立成;潘锴 申请(专利权)人: 深圳市固电电子有限公司
主分类号: H01F17/00 分类号: H01F17/00;H01F27/29;H01F10/20;H01F41/28
代理公司: 长沙七源专利代理事务所(普通合伙)43214 代理人: 郑隽,周晓艳
地址: 518105 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 陶瓷 电感器 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种片式陶瓷电感器的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:

第一步:制作导电部件,具体是:绕制电极线圈(21);在绕制好的电极线圈(21)两端制作基点(22);

第二步;流延陶瓷介质层(11),具体是:先将带有基点(22)的电极线圈(21)通过热敏胶固定在基板表面上,在带有基点(22)的电极线圈(21)外围通过湿法流延陶瓷介质层(11)制成片式陶瓷电感器生胚;

第三步:后处理,具体是:将片式陶瓷电感器生胚进行切割、烧结、封端以及电镀即得片式陶瓷电感器;

所述片式陶瓷电感器包括壳体(1)以及设置在所述壳体(1)内部的导电部件(2);

所述壳体(1)包括陶瓷介质层(11)以及位于所述陶瓷介质层(11)两端的端电极(12);

所述导电部件(2)包括嵌于所述陶瓷介质层(11)内部的电极线圈(21)以及分别设置在所述电极线圈(21)两端端部的两个基点(22),两个所述基点(22)的自由端分别位于两个所述端电极(12)的内部;所述电极线圈(21)为以两个所述基点(22)的中心点所在直线作为轴线螺旋式回旋的螺旋结构。

2.根据权利要求1所述片式陶瓷电感器的制作方法,其特征在于:所述湿法流延具体是:首先,将陶瓷粉料、分散剂X-100、松油醇、乙基纤维素按照重量份100:0.1-0.8:50-75:4-9的比例加入球磨罐中,球磨25-30小时制成陶瓷流延浆料;其次,将陶瓷流延浆料加入流延线并形成流延瀑布,再将基板置于传送带上,使基板多次匀速穿过瀑布,在基板上形成多层厚度均匀的陶瓷介质层;最后,将流延完成的陶瓷生胚进行干燥处理,并在表面印制切割线,即完成湿法流延。

3.根据权利要求1所述片式陶瓷电感器的制作方法,其特征在于:所述后处理中:切割的具体操作是:首先,将制成的陶瓷生胚进行预热,软化生胚巴块;其次,使用切割机进行切割,切割机装有左右两个用于抓取切割线并精准切割的CCD镜头,以确保精准切割,最后,对热敏胶加热至80-90℃,热敏胶发泡失去粘性,晶片与热敏胶分离,即得片式陶瓷电感器生胚;

所述烧结的具体操作是:首先,排胶,具体是将晶片中掺入的胶、杂质进行排除;其次,烧结,具体是:设置烧结曲线,最高温度为860±10℃,保温1小时,晶片烧结致密后形成独石结构的片式陶瓷电感器;

所述封端具体操作是:先将片式陶瓷电感器植入JIG板中,再使用沾银机将片式陶瓷电感器两引出端封住,使用的封端银浆银含量为68%-72%;

所述电镀具体操作是:首先,进行除油、酸洗和活化;其次,镀镍和镀锡,镀镍:镀液中电流密度控制为:0.4-0.6A/dm2,pH值为4.5±0.5,镀液温度为55±5℃,镍层厚度为1.0-1.5um;镀锡:镀液中电流密度控制为0.4-0.6A/dm2,pH值为3.5±0.2,镀液温度为23±5℃,锡层厚度为3-7um;最后,将电镀好的片式陶瓷电感器进行清洗和烘干。

4.根据权利要求1所述片式陶瓷电感器的制作方法,其特征在于,所述电极线圈(21)的中心轴线以及两个所述端电极(12)的中心轴线三者重叠。

5.根据权利要求1或4所述片式陶瓷电感器的制作方法,其特征在于,所述陶瓷介质层(11)的介电常数为5-8,且其介质损耗值小于0.001。

6.根据权利要求5所述片式陶瓷电感器的制作方法,其特征在于,所述电极线圈(21)的含银量为85%-88%;其线圈用线的直径为0.25-0.5mm,电极线圈的直径为1.0-2.5mm,电极线圈的总长为1.5-6.5mm;所述电极线圈(21)中相邻两层之间的距离为0.3-0.5mm。

7.根据权利要求5所述片式陶瓷电感器的制作方法,其特征在于,两个所述基点(22)的含银量为85%-88%;单个所述基点(22)中:其外径为0.5-2.5mm,其内径为0.25-1.0mm,其高度为0.8-3.5mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市固电电子有限公司,未经深圳市固电电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610141542.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top