[发明专利]绑定式磁控溅射旋转靶材及其制备方法

权利要求书

1.一种绑定式磁控溅射旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述绑定式磁控溅射旋转靶材包括背管以及固定套接在背管外壁的靶管，所述靶管为至少一个，所述背管外壁设有开口槽；所述靶管通过填充在开口槽内的无铟钎焊材料焊接固定在背管外壁；

通过以下方法制备：选取背管，在背管外壁机加工开口槽，清洗烘干后水平固定到旋转设备上，在开口槽内加入无铟钎焊材料；选取靶管，对靶管内壁进行金属化处理；将处理后的靶管套到准备好的背管上；启动旋转设备，对背管内壁和靶材外壁同时加热，绑定完成后，关掉加热源，保持旋转设备工作，直至靶管冷却到室温，即得；

其中，所述无铟钎焊材料不使用熔剂，加入量为开口槽槽深的一半；所述金属化处理是对靶管内壁进行Ni镀膜；绑定过程中控制旋转速度为15—20转/分钟，加热温度为180℃—350℃。

2.根据权利要求1所述绑定式磁控溅射旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述开口槽为半圆形螺旋槽，螺旋槽螺距是槽深的一半。

3.根据权利要求1所述绑定式磁控溅射旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述靶管内壁与背管外壁间隙为0.2—0.4mm。

4.根据权利要求1所述绑定式磁控溅射旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述靶管为两个以上时，所述靶管与靶管之间间隙小于0.5mm，使用硅橡胶垫和高温胶带密封。

5.根据权利要求1所述绑定式磁控溅射旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述靶管为三个以上时，设置在两端的两个靶管比中间靶管厚30％—50％。