[发明专利]曝光装置及曝光方法有效

专利信息
申请号: 201610149660.5 申请日: 2013-03-26
公开(公告)号: CN105652609B 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 熊泽雅人 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/24 分类号: G03F7/24;G03F7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;王娟娟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种曝光装置,使沿着圆筒面配置的反射性的光罩图案的像在感应性衬底上投影曝光,所述圆筒面是围绕规定的中心线以规定的半径弯曲而成的,所述曝光装置的特征在于,包括:

光罩保持部件,沿着所述圆筒面保持所述光罩图案,并能够围绕所述中心线旋转;

照明光学系统,使来自光源的照明光朝着设定在所述光罩图案上的一部分上的照明区域照射,并且以使得在所述圆筒面的周向分布的所述照明光的主光线的延长线朝向所述中心线与所述圆筒面之间的规定位置的方式使所述主光线关于所述圆筒面的周向倾斜;以及

投影光学系统,被射入从所述照明区域产生的反射光束,并使所述光罩图案的一部分的像成像在所述感应性衬底上,

所述投影光学系统包括第1投影光学系统、凹面镜和第2投影光学系统,所述第1投影光学系统将从所述照明区域产生的所述反射光束引导至中间像面,并在所述中间像面形成所述光罩图案的一部分的像;所述凹面镜配置在所述中间像面的位置或其附近;所述第2投影光学系统被射入在所述凹面镜反射的所述反射光束,将形成在所述中间像面上的像投影于所述感应性衬底。

2.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,

所述投影光学系统所包括的所述凹面镜是以沿着所述中间像面的方式弯曲成朝向光入射侧凹入的圆筒面状的凹圆筒面镜。

3.如权利要求2所述的曝光装置,其特征在于,

在所述圆筒面的周向分布的所述照明光的主光线的延长线所交叉的所述规定位置设定为所述中心线与所述圆筒面之间的中央位置或其附近。

4.如权利要求3所述的曝光装置,其特征在于,

将从所述中心线到所述规定位置的距离设定为所述光罩图案的圆筒面的半径的约1/2。

5.如权利要求1~4中任一项所述的曝光装置,其特征在于,

所述照明光学系统包括第1光学部件,该第1光学部件的关于所述光罩图案的圆筒面的周向的折射力比沿着所述中心线的方向的折射力大。

6.如权利要求1~4中任一项所述的曝光装置,其特征在于,

所述照明光学系统包括光阑部件,该光阑部件配置在形成作为所述照明光的光源的一次光源像的位置,所述光阑部件以使得在所述光罩图案的圆筒面的周向上照射所述照明区域的所述照明光的发散角小于沿着所述中心线的方向上照射所述照明区域的所述照明光的发散角的方式设置。

7.一种曝光装置,使沿着圆柱状或圆筒状的光罩的外周面形成的反射性的光罩图案经由投影光学系统而在感应性衬底上曝光,所述光罩的所述外周面围绕规定的中心线以规定的半径弯曲成圆筒面状,所述光罩能够围绕所述中心线旋转,所述曝光装置的特征在于,

包括照明光学系统,该照明光学系统包括第1光学部件,所述第1光学部件为了使照明光朝着设定在所述光罩图案的一部分上的照明区域射出,并且使所述照明光的在所述外周面的周向上分布的主光线的延长线在所述外周面与所述中心线之间的中间位置交叉,所述第1光学部件的关于形成所述光罩图案的所述外周面的周向的折射力设定得比沿着所述中心线的方向的折射力大,

所述投影光学系统被射入从所述照明区域产生的反射光而使所述光罩图案的一部分的像成像在所述感应性衬底上。

8.如权利要求7所述的曝光装置,其特征在于,

将从所述中心线到所述中间位置的距离设定为所述光罩的外周面的半径的约1/2。

9.如权利要求7或8所述的曝光装置,其特征在于,

所述照明光学系统所包括的所述第1光学部件包括透镜,所述透镜的关于所述光罩的外周面的周向的折射力比沿着所述中心线的方向的折射力大。

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