[发明专利]一种光固化材料及其应用

权利要求书

1.一种光固化材料用于光固化3D打印的应用，所述光固化材料，包括如下组分：

所述的超支化聚碳硅烷是含不饱和双键的超支化聚碳硅烷，超支化聚碳硅烷的数均分子量介于300-15000；所述的不饱和双键为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基或烯丙基，超支化聚碳硅烷中不饱和双键的含量为1-30wt％。

2.根据权利要求1所述的光固化材料用于光固化3D打印的应用，其特征在于，所述的光引发剂选自紫外光引发剂或可见光引发剂；所述的紫外光引发剂选自1-羟基环己基苯基甲酮、二苯甲酮、二苯乙醇酮中的一种或两种；所述的可见光引发剂选自双(五氟苯基)钛茂或双[2,6-二氟-3-(1H-吡咯基-1)苯基]钛茂。

3.根据权利要求1所述的光固化材料用于光固化3D打印的应用，其特征在于，所述的活性稀释剂选自含有丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基或乙烯氧基的单体。

4.根据权利要求3所述的光固化材料用于光固化3D打印的应用，其特征在于，所述的活性稀释剂选自二缩三丙二醇二丙烯酸酯或二乙氧基双酚A二丙烯酸酯。

5.根据权利要求1所述的光固化材料用于光固化3D打印的应用，其特征在于，所述的添加剂为助引发剂、消泡剂、抗氧化剂、流平剂、分散剂、消光剂、稳定剂、填料、颜料、烧结助剂中的一种或多种。

6.根据权利要求5所述的光固化材料用于光固化3D打印的应用，其特征在于，所述的添加剂为助引发剂CN373、消泡剂聚二甲基硅氧烷或碳化硅粉末填料。

7.一种光固化材料用于制备SiC构件的应用，利用3D打印机将光固化材料喷射到支撑材料上，在可见光或紫外光作用下固化成形，经逐层堆积后形成三维立体构件，并将三维立体构件在无氧条件下，1000～2000℃保温20～360min，得到SiC构件；

所述光固化材料，包括如下组分：

所述的超支化聚碳硅烷是含不饱和双键的超支化聚碳硅烷，超支化聚碳硅烷的数均分子量介于300-15000；所述的不饱和双键为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基或烯丙基，超支化聚碳硅烷中不饱和双键的含量为1-30wt％。