[发明专利]一种晶硅太阳电池二次印刷正面电极套印网版图形结构在审
申请号: | 201610149923.2 | 申请日: | 2016-03-16 |
公开(公告)号: | CN105599431A | 公开(公告)日: | 2016-05-25 |
发明(设计)人: | 麻晓明;卢庆国 | 申请(专利权)人: | 上海艾力克新能源有限公司 |
主分类号: | B41F15/36 | 分类号: | B41F15/36;H01L31/0224 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 太阳电池 二次 印刷 正面 电极 套印 版图 结构 | ||
技术领域
本发明涉及太阳能电池领域,更具体的说,涉及一种新型的太阳能电 池二次印刷正电极网版图形结构。
背景技术
太阳能是清洁的、永不枯竭的、可再生的能源,硅PN结型太阳电池已 发展成为光伏市场主宰。硅PN结太阳电池的制作以硅为衬底,在表面制作 绒面,再扩散制作PN结,然后刻蚀边缘,再利用PECVD镀一层钝化减反射膜, 最后通过丝网印刷烧结技术制作电极。
传统丝网印刷通过单次印刷制备正面电极,电极形貌受到限制,难以 获得理想的高宽比。二次印刷技术通过DP1和DP2两次印刷制备正面电极, DP2印刷的电极累叠在DP1印刷的电极之上,在电极高度总体变高的情况下, 电极宽度也可以细化,从而减少表面遮光面积、提高短路电流Isc、确保串 联电阻Rs和填充因子FF不损失,从而有效提升电池的转换效率。
二次印刷技术已经成为现今提高电池转换效率的有效方法之一,但是 产业化的二次印刷技术依然存在DP2电极与DP1电极发生错位、对位不准的 问题,从而引起电极高宽比下降、遮光面积上升、短路电流下降,最终导 致电池转换效率下降。
网版图形的优化设计对二次印刷对准状态有着重要影响,优化的图形 设计能够使DP2电极完好的累叠在DP1电极之上而不产生错位,因此,如 何进行二次印刷网版图形的设计优化,以提升二次印刷技术在量产过程中 的对准精度,是一个重要的课题。
发明内容
本发明针对上述存在的技术问题,提供了一种新型太阳能电池二次印 刷正面电极,减少了印刷过程中DP2电极与DP1电极发生错位的概率,提 升了二次印刷的对准精度,同时获得性能良好的太阳电池。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种晶硅太阳电池二次印刷正面电极套印网版图形结构,其特征在于, 包括DP1(二次印刷底层)图形和DP2(二次印刷上层)图形,所述DP1 图形包括副栅线、特征图形以及Mark点,所述DP2图形包括主栅线、副栅 线、Mark点、特征图形以及边框线。
所述DP1图形的副栅线数量为95根以上,副栅线之间相互平行;所述 DP1图形的Mark点为数量多于3个的由浆料印刷而成且位于两根副栅线之 间的实心圆点,且对称分布于以图形表面;所述DP1图形的特征图形有4 处,对称分布于图形的边缘。
所述DP1图形的特征图形是其四根连续排列的副栅线,其中的位于内 侧两根端点不互连,而位于外侧的两根端点互连而形成的特征图形,两端 特征图形相同;所述内侧的两根较短且等长,所述外侧的两根较长且等长。
所述DP2图形的主栅线数量为2根以上,副栅线数量和间距与所述DP1 图形的副栅线数量和间距相同;主栅线与副栅线相互垂直,副栅线之间相 互平行;边框线平行于主栅线,与副栅线垂直连接,且在所述DP2图形的 特征图形处留有缺口;所述DP2图形的Mark点为位于主栅线顶端部分,数 量及位置与DP1图形中的Mark点一致的空心圆点;所述DP2图形的特征 图形的数量及位置与DP1图形的特征图形一致,且与DP1图形的特征图具 有耦合性。
所述DP2图形的特征图形是其与副栅线垂直的边框线在两根较短副栅 线的延长线处断开,所述两根较短的副栅线与所述DP1图形的特征图形中 的两根较短副栅线的长度和位置相同。
所述主栅线具有多段等间距镂空部分构成,镂空部分为浆料印刷区域, 其两端宽度较小并逐渐变宽,副栅线垂直穿过所述主栅线的镂空部分。
所述镂空部分为由一定数量相同大小的圆孔阵列所构成。
本发明技术方案所带来的有益效果如下:
DP1图形和DP2图形都设计了Mark点和特征图形,用于对二次印刷对 准状态进行观察判断和调整优化,大大降低了DP1电极与DP2电极发生位 错的概率,提升了二次印刷技术在量产中的对位精度,减少了遮光面积, 提升了电池的短路电流Isc,从而使太阳电池的综合性能得到提升。另外, 主栅线采用分段式镂空设计,且只在DP2图形中设计了主栅线,在DP1图 形中没有设计主栅线,这样的设计大大降低了正银浆料的使用量,降低了 生产成本。
附图说明
图1是DP1图形的结构图。
图2是DP1图形中Mark点的局部放大图。
图3是DP1图形中特征图形区域的局部放大图。
图4是DP2图形的结构示意图。
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