[发明专利]推滑式印盒结构在审
申请号: | 201610153157.7 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN107199791A | 公开(公告)日: | 2017-09-26 |
发明(设计)人: | 林长亿 | 申请(专利权)人: | 林长亿 |
主分类号: | B41K1/54 | 分类号: | B41K1/54 |
代理公司: | 北京慧泉知识产权代理有限公司11232 | 代理人: | 王顺荣,唐爱华 |
地址: | 中国台湾台中市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 推滑式 印盒 结构 | ||
【技术领域】
本发明有关于一种推滑式印盒结构,尤指创新结构设置的卡挚组件与受掣组件的所在位置来行使其相互脱离时,避开手指按压推移上盒体的分向力,使推移上盒体自下盒体横移时,不会有推不出现象发生,而更加顺畅及省力的推滑式印盒结构。
【背景技术】
传统推滑式的印盒10如图1所示,,是一上盒体11及一下盒体12相结合,下盒体12有一空间121,空间121两侧互为平行的壁体,内有滑轨122,上盒体11有两侧内凸轨111嵌入于滑轨122,可作上盒体11滑行于下盒体12上,下盒体12前端顶面有一凹孔123,上盒体11相对处有一凸点112,且上盒体11上方面有前端记号113,当上盒体11闭合于下盒体12上时,上盒体11的凸点112卡止于下盒体12的凹孔123内,使上盒体11不因摇晃或外力而随时横移脱离下盒体12。
但是,传统推滑式印盒10,其卡掣结构位置设在下盒体12上端缘面及上盒体11下端缘面的相互接触面上,手指按压推移上盒体11时的推移力A除了包含侧向推移力B外,包含一向下的的分向力F(如图2所示),此向下的分向力F正好将上盒体11的凸点112往下卡止于下盒体12的凹孔123内,因此在推移上盒体11时必需更加用力,才能使上盒体11的凸点112脱离(外移)下盒体12的凹孔123,上盒体11才能作滑动,但是每个人对上盒体11施力点(位置)各不同,施力点越靠近凸点112越难推滑动,当施力点越靠近凸点112到某程度,使凸点112无法脱离(外移)下盒体12的凹孔123而造成卡住推不出,尤其习惯用两手同时推滑的人来说,更易会将其中一手推在凸点112上方前端处,上盒体11前端记号113(可为商标、装饰品)起初往往被误认为是推出施力点,同样会造成推不出上盒体11,所以传统的印盒10推移上盒体11时,常出现推不出现象且费力而不顺畅。
【发明内容】
本发明一种推滑式印盒结构,目的是:1、提供卡挚组件与受掣组件的位置设置,避开手指按压推移上盒体的分向力,使推移上盒体自下盒体横移时,不会有推不出现象发生,而更加顺畅及省力。2、提供一印泥衬盖,可横移或掀开,以遮蔽印泥槽。3、提供刷子可定位于印盒内,取出刷子,作清印章污泥的动作。
本发明一种推滑式印盒结构,其是一具有上盒体及一下盒体相结合的推滑式印盒,下盒体有一空间,空间两侧互为平行的壁体,内有滑轨,上盒体有两侧内凸轨嵌入于滑轨;其特征在于:下盒体两侧平行的壁体适当位置设有凹陷壁,凹陷壁上设有一卡挚组件,上盒体相对下盒体凹陷壁处设置有薄凸片,薄凸片上设有受掣组件,卡挚组件与受掣组件相卡掣;据此,卡挚组件与受掣组件在其所在结构位置来行使其相互脱离时,可避开手指按压推移上盒体的分向力,使推移上盒体时不会有推不出现象发生而更加顺畅及省力。
其中,该下盒体两壁体前端为空缺,上盒体相对处有一补缺壁,并补缺壁靠合于空缺。
其中,该下盒体的空间加大,放置两颗以上印章。
其中,该下盒体的空间置入一印泥衬盖,两侧有凸轨。
其中,该下盒体的空间形成单一空穴。
其中,该下盒体内壁设有两止定组件,两止定组件相隔一段距离,印泥衬盖两侧前端设有一卡止组件。
其中,该印泥衬盖侧边与一体成型的印泥穴体相连接,印泥衬盖与印泥穴体间为可弯曲折边。
其中,该上盒体设有止滑面。
其中,该下盒体底部设有垫厚区。
其中,该上盒体的补缺壁设有止滑条沟。
本发明优点及功效在于:卡挚组件与受掣组件的位置设置,避开手指按压推移上盒体的分向力,使推移上盒体自下盒体横移时,不会有推不出现象发生,更加顺畅及省力。具有印泥衬盖,可横移或掀开,以遮蔽印泥槽。刷子可定位于印盒内,取出刷子,清理印章污泥。
【附图说明】
图1是习知推滑式的印盒的剖面示意图。
图2是习知推滑式的印盒推移上盒体施力向量的示意图。
图3是本发明第一实施例的立体分解示意图。
图4是本发明第一实施例组合的立体示意图。
图5是本发明第一实施例的平面分解示意图。
图6是本发明第二实施例的立体分解示意图。
图7是本发明第三实施例的立体分解示意图。
图8是本发明第四实施例的立体分解示意图。
图9是本发明第五实施例的平面示意图。
图10是本发明第五实施例印泥衬盖侧面的平面示意图。
图11是本发明第五实施例印泥衬盖前视面的平面示意图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于林长亿,未经林长亿许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610153157.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。