[发明专利]液晶玻璃基板清洗设备和方法在审
申请号: | 201610153466.4 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN105665397A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 李庆文;金永旭;李盛印;金宪优 | 申请(专利权)人: | 东旭科技集团有限公司;东旭集团有限公司 |
主分类号: | B08B11/04 | 分类号: | B08B11/04;B08B13/00 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 李翔;李雪 |
地址: | 100075 北京市丰台区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 玻璃 清洗 设备 方法 | ||
1.一种液晶玻璃基板清洗设备,其特征在于,该液晶玻璃基板清洗设备包括清洗液清 洗单元(3)以及分别连接于所述清洗液清洗单元(3)首尾两端的前隔离单元(15)和后隔离 单元(16),所述前隔离单元(15)和所述后隔离单元(16)分别包括靠近所述清洗液清洗单元 (3)的一侧设置的液切刀部(7,9),所述液切刀部(7,9)分别设置为朝向所述清洗液清洗单 元(3)倾斜地喷射清洗液,以形成沿所述液晶玻璃基板清洗设备的宽度方向延伸的清洗液 帘。
2.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板清洗设备,其特征在于,所述液切刀部(7,9)的 喷嘴设置为与竖直方向的夹角为5°到30°。
3.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板清洗设备,其特征在于,所述前隔离单元(15)和 所述后隔离单元(16)还分别包括背离所述清洗液清洗单元(3)的一侧设置的气切刀部。
4.根据权利要求3所述的液晶玻璃基板清洗设备,其特征在于,该液晶玻璃基板清洗设 备包括用于输送液晶玻璃基板的输送带,所述液切刀部(7,9)包括分别位于所述输送带上 方和下方并彼此对应的上液切刀和下液切刀;所述气切刀部包括分别位于输送带上方和下 方并彼此对应的上气切刀和下气切刀。
5.根据权利要求3所述的液晶玻璃基板清洗设备,其特征在于,所述前隔离单元(15)和 所述后隔离单元(16)的所述气切刀部分别包括靠近各自对应的所述液切刀部(7,9)设置的 切清洗液风刀部(8,10),所述切清洗液风刀部(8,10)设置为朝向各自对应的所述液切刀部 (7,9)倾斜地吹送空气。
6.根据权利要求3所述的液晶玻璃基板清洗设备,其特征在于,该液晶玻璃基板清洗设 备还包括连接于所述前隔离单元(15)前端的预清洗单元(2),所述前隔离单元(15)的所述 气切刀部还包括靠近所述预清洗单元(2)设置的第二切水风刀部(12),该第二切水风刀部 (12)设置为朝向所述预清洗单元(2)倾斜地吹送空气;
并且,该液晶玻璃基板清洗设备还包括连接于所述后隔离单元(16)尾端的纯水清洗单 元(4),所述后隔离单元(16)的所述气切刀部还包括靠近所述纯水清洗单元(4)设置的第三 切水风刀部(11),该第三切水风刀部(11)设置为朝向所述纯水清洗单元(4)倾斜地吹送空 气。
7.根据权利要求6所述的液晶玻璃基板清洗设备,其特征在于,该液晶玻璃基板清洗设 备还包括顺序连接于所述预清洗单元(2)前端的投入隔离单元(14)和投入单元(1),所述投 入隔离单元(14)包括第一切水风刀部,该第一切水风刀部设置为朝向所述预清洗单元(2) 吹送空气;
和/或该液晶玻璃基板清洗设备还包括顺序连接于所述纯水清洗单元(4)尾端的分切 干燥单元(5)和输出单元(6)。
8.根据权利要求1-7中任意一项所述的液晶玻璃基板清洗设备,其特征在于,该液晶玻 璃基板清洗设备采用耐盐酸腐蚀材料制成。
9.一种液晶玻璃基板清洗方法,其特征在于,该液晶玻璃基板清洗方法包括利用根据 权利要求1-8中任意一项所述的液晶玻璃基板清洗设备对液晶玻璃基板进行清洗,所述清 洗液为盐酸溶液。
10.根据权利要求9所述的液晶玻璃基板清洗方法,其特征在于,所述盐酸溶液的浓度 为5%~18%,温度为30°~40°;并且,所述液晶玻璃基板在所述清洗液清洗单元(3)中停留 的时间为30s~60s。
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