[发明专利]一种去除石墨烯的方法

权利要求书

1.一种去除石墨烯的方法，其特征在于，在特定环境中，采用特定波长的紫外光照射的方式去除石墨烯。

2.根据权利要求1所述的一种去除石墨烯的方法，其特征在于，所述紫外光中，包含有光波长为110nm-196nm的紫外光，所述特定环境中，含有保护气体和反应气体。

3.根据权利要求1-2任一所述的一种去除石墨烯的方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）在石墨烯薄膜表面制作掩膜层；

2）对掩膜层进行图案化，将需要刻蚀掉石墨烯的部分的掩膜层去除，直接裸露出此部分的石墨烯；

3）在所述特定环境中，用所述光波长的紫外光照射掩膜层，直至需要去除区域的石墨烯被完全去除；

4）去除剩余的掩膜层。

4.根据权利要求3所述的一种去除石墨烯的方法，其特征在于，所述特定环境中的保护气体为氮气、氩气、氦气中的一种或多种混合。

5.根据权利要求4所述的一种去除石墨烯的方法，其特征在于，所述特定环境中的反应气体为氧气、氯气、氟气中的一种或多种混合。

6.根据权利要求5所述的一种去除石墨烯的方法，其特征在于，所述特定环境中保护气体的含量范围为79%-99%，反应气体的含量范围为1%-20%。

7.根据权利要求1-2任一所述的一种去除石墨烯的方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）将待去除的石墨烯层的待处理面放置在所述特定环境中；

2）在所述特定环境中，用所述光波长的紫外光照射待处理面，直至需要去除区域的石墨烯被完全去除。

8.根据权利要求7所述的一种去除石墨烯的方法，其特征在于，所述特定环境中的保护气体为氮气、氩气、氦气中的一种或多种混合。

9.根据权利要求8所述的一种去除石墨烯的方法，其特征在于，所述特定环境中的反应气体为氧气、氯气、氟气中的一种或多种混合。

10.根据权利要求9所述的一种去除石墨烯的方法，其特征在于，所述特定环境中保护气体的含量范围为79%-99%，反应气体的含量范围为1%-20%。