[发明专利]一种填充垂直通孔的方法及装置有效
申请号: | 201610157120.1 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN105671473B | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
发明(设计)人: | 赵宁;董伟;魏宇婷;黄明亮;钟毅;康世薇 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C23C4/123 | 分类号: | C23C4/123;H01L21/768 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 李馨 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 填充 垂直 方法 装置 | ||
1.一种填充垂直通孔的装置,包括金属液喷射装置和填充工作区(3),所述金属液喷射装置置于腔体(1)的上部,所述金属液喷射装置包括用于液滴喷射的坩埚(2)、设置在所述坩埚(2)顶部的压电陶瓷(22),与所述压电陶瓷(22)相连的且深入所述坩埚(2)及其中熔体内部的传动杆(23),所述坩埚(2)的底部设有中心孔,所述坩埚(2)底部还连有与所述中心孔相通的薄片(27),所述薄片(27)上设有喷射孔(271),所述坩埚(2)外侧设有加热带(26),所述坩埚(2)顶部设有坩埚进气口(24)和坩埚排气口(25),所述腔体(1)一侧开有腔体进气口(14)和腔体排气口(13),机械泵(11)与扩散泵(12)安装在所述坩埚(2)的上部且与所述坩埚(2)及所述腔体(1)相连;
其特征在于:
所述坩埚(2)是以中心线为轴的圆筒形结构,所述坩埚(2)通过连接有三维运动控制器(28)的坩埚支架(21)与所述腔体(1)上部相连,所述腔体(1)中部两侧还设有维持腔体(1)温度的腔体温度控制器(15);
所述填充工作区(3)包括用于承接所述金属液喷射装置喷射出的均匀液滴(4)或稳流液线(5)的衬底(32)和用于放置所述衬底(32)且对所述衬底(32)施加超声振动的衬底承载部;
所述喷射孔(271)与所述衬底(32)之间的垂直距离D与所述衬底(32)的温度T之间满足以下关系,T≥100+(D-5)×5;
所述衬底(32)上已形成未贯穿所述衬底(32)的微孔(321)阵列图形,所述微孔(321)的侧壁已完成扩散阻挡层(323)及绝缘层(324)处理;
所述坩埚(2)内置有热电偶,所述喷射孔(271)的直径小于所述微孔(321)的直径,所述喷射孔(271)的直径与所述微孔(321)的直径的比值为0.45-0.75。
2.根据权利要求1所述的填充垂直通孔的装置,其特征在于:当所述衬底承载部仅为工作平台(31)时,所述填充工作区(3)置于所述腔体(1)底部,工作时,所述机械泵(11)与所述扩散泵(12)对所述腔体(1)和所述坩埚(2)抽真空;
当所述衬底承载部为带有传送带(33)的工作平台(31)时,所述填充工作区(3)位于所述腔体(1)下方,所述腔体(1)下部无底,工作时,所述机械泵(11)与所述扩散泵(12)仅对所述坩埚(2)抽真空;或者将所述腔体(1)下部两侧侧壁开设对称的可供所述传送带(33)穿过的侧拉门(16),工作时,所述机械泵(11)与所述扩散泵(12)对所述腔体(1)和所述坩埚(2)抽真空。
3.根据权利要求1所述的填充垂直通孔的装置,其特征在于:所述喷射孔(271)为单孔、单列孔或与所述微孔(321)阵列图形相同的全阵列孔。
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