[发明专利]水氧阻隔-触控-保护膜、其制作方法及OLED显示面板

权利要求书

1.一种水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，包括：

柔性基材层(1)，包括基材主体(11)和接触设置在所述基材主体(11)的相对表面上的过渡层(12)和硬化保护层(13)，所述硬化保护层(13)的硬化强度在铅笔硬度5H以上；以及

具有阻隔功能的触控膜组(2)，接触设置在所述过渡层(12)的远离所述基材主体的表面上，所述触控膜组(2)中的触控元件设置在同一功能层中，

所述触控膜组(2)包括：

水氧阻隔层(21)，接触设置在所述过渡层(12)的远离所述基材主体(11)的表面上；

保护层(22)，接触设置在所述水氧阻隔层(21)的远离所述柔性基材层(1)的表面上；

触控功能层(23)，接触设置在所述保护层(22)的远离所述水氧阻隔层(21)的表面上，以构成所述触控膜组(2)的所述触控元件。

2.根据权利要求1所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，形成所述基材主体(11)的材料为PET、PEN、COP、COC或PI；形成所述硬化保护层(13)的材料为聚酯类树脂；形成所述过渡层(12)的材料为聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯。

3.根据权利要求2所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，形成所述硬化保护层(13)的材料为聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯。

4.根据权利要求2所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，形成所述硬化保护层(13)的材料与形成所述过渡层(12)的材料相同。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，所述硬化保护层(13)的厚度为1～3μm。

6.根据权利要求1所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，形成所述水氧阻隔层(21)的材料为Al₂O₃、TiO₂、SiN、SiO₂、HMDSO或聚酯。

7.根据权利要求6所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，所述水氧阻隔层(21)的厚度为10nm～5μm。

8.根据权利要求1所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，形成所述触控功能层(23)的材料选自ITO、金属网格、纳米银、石墨烯和碳纳米管中的任意一种。

9.根据权利要求8所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，所述触控功能层(23)的厚度为10nm～1μm。

10.根据权利要求1所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，形成所述保护层(22)的材料为SiN_X、SiO_X、HMDSO或聚酯。

11.根据权利要求10所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，所述保护层(22)的厚度为1～3μm。

12.根据权利要求1所述的水氧阻隔-触控-保护膜，其特征在于，所述水氧阻隔-触控-保护膜还包括保护膜，所述保护膜设置在所述硬化保护层(13)的远离所述基材主体(11)的表面上。