[发明专利]用于激光驱动的飞片结构及其制备方法有效
申请号: | 201610159021.7 | 申请日: | 2016-03-18 |
公开(公告)号: | CN105583533B | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 吉祥波;祝明水 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院化工材料研究所 |
主分类号: | B23K26/40 | 分类号: | B23K26/40;B23K26/362;C23C28/00;C25D11/04;C25D3/44;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/14 |
代理公司: | 四川省成都市天策商标专利事务所51213 | 代理人: | 袁辰亮 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 激光 驱动 结构 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于激光驱动的飞片结构,包括透明基底(1);其特征在于:所述透明基底(1)上设置纳米铝阵列烧蚀层(2);所述纳米铝阵列烧蚀层(2)上填充氧化铝阻热层(3);所述氧化铝阻热层(3)上设置铝飞片层(4);所述的纳米铝阵列烧蚀层(2)是圆柱型纳米铝周期阵列结构;所述的圆柱型纳米铝的直径为0.5μm至1μm;所述的纳米铝阵列烧蚀层(2)厚度为0.2μm至1μm。
2.根据权利要求1所述的用于激光驱动的飞片结构,其特征在于相邻两个圆柱型纳米铝的中心之间距离为0.6μm至1.2μm。
3.根据权利要求1所述的用于激光驱动的飞片结构,其特征在于所述的氧化铝阻热层(3)厚度为1μm至2μm。
4.根据权利要求1所述的用于激光驱动的飞片结构,其特征在于所述的铝飞片层(4)厚度为4μm至10μm。
5.一种用于激光驱动的飞片结构制备方法,其特征在于所述的方法包括以下步骤:
步骤一、在透明基底的表面物理沉积一层金属铝;
步骤二、将金属铝氧化成多孔的氧化铝,然后在孔中电沉积金属铝,孔填充满后得到圆柱型纳米铝周期阵列结构;
步骤三、在圆柱型纳米铝周期阵列结构表面磁控溅射一层氧化铝阻热层;
步骤四、在氧化铝阻热层表面沉积一层金属铝飞片层。
6.根据权利要求5所述的用于激光驱动的飞片结构制备方法,其特征在于所述的步骤一是采用阳极氧化或电子束刻蚀方式在透明基底的表面物理沉积一层金属铝。
7.根据权利要求5所述的用于激光驱动的飞片结构制备方法,其特征在于所 述的步骤四是采用磁控溅射或粘贴方式在氧化铝阻热层表面沉积一层金属铝飞片层。
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